| 缩写词表 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 第一章 C18-DTT-SiO_2RPLC/HILIC混合模式色谱固定相的制备、表征及应用研究 | 第12-35页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 实验部分 | 第13-16页 |
| 1.2.1 药品和试剂 | 第13-14页 |
| 1.2.2 仪器 | 第14页 |
| 1.2.3 C18-DTT-SiO_2的制备 | 第14-15页 |
| 1.2.4 色谱柱装填 | 第15页 |
| 1.2.5 C18-DTT-SiO_2的表征 | 第15页 |
| 1.2.6 样品制备 | 第15页 |
| 1.2.7 色谱评价 | 第15-16页 |
| 1.3 结果与讨论 | 第16-28页 |
| 1.3.1 C18-DTT-SiO_2的制备和表征 | 第16-17页 |
| 1.3.2 色谱评价 | 第17-24页 |
| 1.3.2.1 流动相中ACN含量的影响 | 第17-18页 |
| 1.3.2.2 流动相pH的影响 | 第18-21页 |
| 1.3.2.3 流动相中NH4AcO浓度的影响 | 第21-22页 |
| 1.3.2.4 柱温的影响 | 第22-23页 |
| 1.3.2.5 流速-板高曲线 | 第23页 |
| 1.3.2.6 Stop-flow测试 | 第23-24页 |
| 1.3.2.7 柱稳定性和柱间重现性考察 | 第24页 |
| 1.3.3 C18-DTT-SiO_2的应用 | 第24-28页 |
| 1.3.3.1 酸性物质的分离 | 第24-25页 |
| 1.3.3.2 碱性物质的分离 | 第25-28页 |
| 1.3.3.3 多环芳烃的分离 | 第28页 |
| 1.4 结论 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-35页 |
| 第二章 SiO_2表面硅羟基的研究 | 第35-48页 |
| 2.1 引言 | 第35-36页 |
| 2.2 实验部分 | 第36-39页 |
| 2.2.1 药品和试剂 | 第36页 |
| 2.2.2 仪器 | 第36页 |
| 2.2.3 制备方法 | 第36-38页 |
| 2.2.3.1 SiO_2的活化 | 第37页 |
| 2.2.3.2 SiO_2@TEOS的制备 | 第37-38页 |
| 2.2.3.3 SiO_2@GOPS/TEOS的制备 | 第38页 |
| 2.2.3.4 SiO_2@GOPS/CTAB/TEOS的制备 | 第38页 |
| 2.2.4 材料的表征 | 第38-39页 |
| 2.2.4.1 孔结构测定 | 第38-39页 |
| 2.2.4.2 硅羟基测定 | 第39页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第39-43页 |
| 2.3.1 TEOS沉积SiO_2对硅羟基的屏蔽效果 | 第39-40页 |
| 2.3.2 GOPS/TEOS沉积SiO_2对硅羟基的屏蔽效果 | 第40-42页 |
| 2.3.3 GOPS/CTAB/TEOS沉积SiO_2对硅羟基的屏蔽效果 | 第42-43页 |
| 2.4 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-48页 |
| 第三章 综述：混合模式色谱固定相的表征方法 | 第48-81页 |
| 3.1 引言 | 第48页 |
| 3.2 MMC 固定相的概述 | 第48-49页 |
| 3.3 MMC 固定相的表征方法 | 第49-56页 |
| 3.3.1 MMC固定相物理性质表征方法原理及应用 | 第49-51页 |
| 3.3.1.1 扫描电子显微镜 | 第49-50页 |
| 3.3.1.2 透射电子显微镜 | 第50页 |
| 3.3.1.3 氮气吸附法 | 第50-51页 |
| 3.3.2 MMC固定相化学性质表征方法原理及应用 | 第51-56页 |
| 3.3.2.1 红外吸收光谱 | 第51-52页 |
| 3.3.2.2 核磁共振波谱 | 第52-53页 |
| 3.3.2.3 能量色散 X 射线谱 | 第53页 |
| 3.3.2.4 X射线光电子能谱 | 第53-54页 |
| 3.3.2.5 元素分析 | 第54页 |
| 3.3.2.6 热重分析 | 第54-55页 |
| 3.3.2.7 接触角测量 | 第55-56页 |
| 3.3.2.8 离子交换容量测定 | 第56页 |
| 3.4 结论和展望 | 第56-71页 |
| 参考文献 | 第71-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 附录一 ：攻读学位期间发表论文目录 | 第82-83页 |
| 附录二 :所用分析物的结构式及相关信息 | 第83-90页 |
