| 摘要 | 第13-16页 |
| Abstract | 第16-18页 |
| 第一章 绪论 | 第19-34页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第19页 |
| 1.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的研究现状 | 第19-25页 |
| 1.2.1 MC(M=Ta,Hf,Zr)二元陶瓷的结构与性能 | 第19-21页 |
| 1.2.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的结构与性能 | 第21-23页 |
| 1.2.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的制备工艺 | 第23-25页 |
| 1.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体合成的研究进展 | 第25-30页 |
| 1.3.1 MC(M=Ta,Hf,Zr)二元陶瓷粉体合成工艺 | 第25-29页 |
| 1.3.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的合成工艺 | 第29-30页 |
| 1.4 溶剂热合成制备UHTCs粉体的研究进展 | 第30-32页 |
| 1.4.1 溶剂热合成技术简介 | 第30-31页 |
| 1.4.2 溶剂热合成碳化物粉体的研究进展 | 第31-32页 |
| 1.5 论文选题依据及研究内容 | 第32-34页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第34-41页 |
| 2.1 实验用原材料与设备 | 第34页 |
| 2.2 实验过程 | 第34-36页 |
| 2.2.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的制备工艺 | 第34-35页 |
| 2.2.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的制备工艺 | 第35-36页 |
| 2.3 分析与表征 | 第36-38页 |
| 2.3.1 基本组成与结构分析 | 第36-37页 |
| 2.3.2 晶体学特性分析 | 第37-38页 |
| 2.3.3 表面特性分析 | 第38页 |
| 2.4 性能测试 | 第38-41页 |
| 2.4.1 力学性能测试 | 第38页 |
| 2.4.2 静态氧化测试 | 第38页 |
| 2.4.3 氧乙炔焰烧蚀性能测试 | 第38-39页 |
| 2.4.4 电学性能测试 | 第39页 |
| 2.4.5 热学性能测试 | 第39-40页 |
| 2.4.6 光学性能测试 | 第40-41页 |
| 第三章 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的可控合成及机理研究 | 第41-77页 |
| 3.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体合成工艺设计 | 第41-52页 |
| 3.1.1 Ta-Hf(Zr)-C的碳热还原转化热力学研究 | 第41-46页 |
| 3.1.2 Ta-Hf(Zr)-C前驱体的溶剂热合成 | 第46-49页 |
| 3.1.3 Ta-Hf(Zr)-C陶瓷粉体的碳热还原工艺初探 | 第49-52页 |
| 3.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的溶剂热处理工艺研究 | 第52-64页 |
| 3.2.1 溶剂热处理温度对Ta-Hf(Zr)-C组成与结构的影响 | 第52-56页 |
| 3.2.2 溶剂热处理时间对Ta-Hf(Zr)-C组成与结构的影响 | 第56-60页 |
| 3.2.3 溶剂热处理填充度对Ta-Hf(Zr)-C组成与结构的影响 | 第60-64页 |
| 3.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的碳热还原转化工艺研究 | 第64-71页 |
| 3.3.1 碳热还原温度对Ta-Hf(Zr)-C组成与结构的影响 | 第64-68页 |
| 3.3.2 碳热还原保温时间对Ta-Hf(Zr)-C组成与结构的影响 | 第68-69页 |
| 3.3.3 升温速率对Ta-Hf(Zr)-C组成与结构的影响 | 第69-71页 |
| 3.4 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的合成机理 | 第71-75页 |
| 3.4.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷前驱体溶剂热合成过程分析 | 第71-73页 |
| 3.4.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体碳热还原转化机理分析 | 第73-75页 |
| 3.5 本章小结 | 第75-77页 |
| 第四章 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的组成与结构研究 | 第77-101页 |
| 4.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的基本组成与结构 | 第77-81页 |
| 4.1.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的组成分析 | 第77-78页 |
| 4.1.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的细观形貌 | 第78-81页 |
| 4.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的晶体学特性研究 | 第81-85页 |
| 4.2.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的XRD分析 | 第81-83页 |
| 4.2.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的晶格常数估算 | 第83-84页 |
| 4.2.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的Raman分析 | 第84-85页 |
| 4.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的表面特性研究 | 第85-90页 |
| 4.3.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的BET分析 | 第86-87页 |
| 4.3.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的XPS分析 | 第87-90页 |
| 4.4 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体的稳定性研究 | 第90-99页 |
| 4.4.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体在无氧环境下的稳定性研究 | 第90-95页 |
| 4.4.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷粉体在有氧环境下的稳定性研究 | 第95-99页 |
| 4.5 本章小结 | 第99-101页 |
| 第五章 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的烧结及性能表征 | 第101-127页 |
| 5.1 Ta-Hf(Zr)-C陶瓷的烧结及组成研究 | 第101-107页 |
| 5.1.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的烧结 | 第101-102页 |
| 5.1.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的组成结构研究 | 第102-105页 |
| 5.1.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的烧结行为与机制研究 | 第105-107页 |
| 5.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的微纳尺度力学特性 | 第107-112页 |
| 5.2.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的硬度 | 第108-109页 |
| 5.2.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的弹性模量 | 第109-111页 |
| 5.2.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的断裂韧度 | 第111-112页 |
| 5.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的氧化特性 | 第112-117页 |
| 5.3.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的动态氧化行为 | 第112-113页 |
| 5.3.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的静态氧化行为 | 第113-115页 |
| 5.3.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的氧化机理 | 第115-117页 |
| 5.4 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的烧蚀特性 | 第117-122页 |
| 5.4.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的氧乙炔焰烧蚀行为研究 | 第117-121页 |
| 5.4.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的烧蚀机理 | 第121-122页 |
| 5.5 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的功能特性 | 第122-126页 |
| 5.5.1 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的电性能 | 第122-123页 |
| 5.5.2 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的热性能 | 第123-125页 |
| 5.5.3 Ta-Hf(Zr)-C三元陶瓷的光学性能 | 第125-126页 |
| 5.6 本章小结 | 第126-127页 |
| 第六章 结论与展望 | 第127-130页 |
| 6.1 结论 | 第127-129页 |
| 6.2 展望 | 第129-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 参考文献 | 第131-142页 |
| 博士期间取得的学术成果 | 第142-144页 |
