| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 食品色素的简介 | 第13-16页 |
| 1.1.1 偶氮类色素的危害 | 第13-14页 |
| 1.1.2 偶氮类色素的测定方法 | 第14-16页 |
| 1.2 石墨烯的简介 | 第16-18页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构和性质 | 第16页 |
| 1.2.2 石墨烯的制备 | 第16-17页 |
| 1.2.3 石墨烯的功能化 | 第17页 |
| 1.2.4 石墨烯修饰电极在分析中的应用 | 第17-18页 |
| 1.3 纳米材料的简介 | 第18-19页 |
| 1.3.1 纳米金属及氧化物的结构和性质 | 第18页 |
| 1.3.2 纳米金属及氧化物修饰电极在分析中的应用 | 第18-19页 |
| 1.4 研究内容和意义 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-27页 |
| 第二章 CTAB-Gr-Pt修饰电极的制备及对日落黄的测定 | 第27-44页 |
| 2.1 引言 | 第27-28页 |
| 2.2 实验部分 | 第28-30页 |
| 2.2.1 仪器设备和试剂 | 第28页 |
| 2.2.2 CTAB-Gr-Pt复合物的合成 | 第28-29页 |
| 2.2.3 CTAB-Gr-Pt/GCE修饰电极的制备 | 第29页 |
| 2.2.4 分析过程 | 第29-30页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第30-39页 |
| 2.3.1 电极修饰材料的表征 | 第30-31页 |
| 2.3.2 修饰电极的循环伏安及交流阻抗的表征 | 第31-32页 |
| 2.3.3 修饰电极的有效面积和饱和吸附量 | 第32-33页 |
| 2.3.4 日落黄在修饰电极上的电化学行为 | 第33-34页 |
| 2.3.5 p H对日落黄电化学行为的影响 | 第34-35页 |
| 2.3.6 修饰材料的滴涂量及富集时间对日落黄电化学行为的影响 | 第35页 |
| 2.3.7 扫描速率对日落黄电化学行为的影响 | 第35-37页 |
| 2.3.8 标准曲线 | 第37-38页 |
| 2.3.9 CTAB-Gr-Pt/GCE修饰电极的重复性和稳定性 | 第38-39页 |
| 2.3.10 干扰实验 | 第39页 |
| 2.3.11 实际样品分析 | 第39页 |
| 2.4 小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-44页 |
| 第三章 PDDA-Gr-Pd修饰电极的制备及对日落黄和柠檬黄的同时测定 | 第44-62页 |
| 3.1 引言 | 第44-45页 |
| 3.2 实验部分 | 第45-47页 |
| 3.2.1 仪器设备和试剂 | 第45页 |
| 3.2.2 PDDA-Gr-Pd复合物的合成 | 第45-46页 |
| 3.2.3 PDDA-Gr-Pd/GCE修饰电极的制备 | 第46页 |
| 3.2.4 分析过程 | 第46-47页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第47-57页 |
| 3.3.1 电极修饰材料的表征 | 第47-48页 |
| 3.3.2 修饰电极的循环伏安及交流阻抗的表征 | 第48-49页 |
| 3.3.3 修饰电极的有效面积和饱和吸附量 | 第49-50页 |
| 3.3.4 日落黄和柠檬黄在修饰电极上的电化学行为 | 第50-52页 |
| 3.3.5 p H对日落黄和柠檬黄电化学行为的影响 | 第52页 |
| 3.3.6 修饰材料的滴涂量及富集时间对日落黄和柠檬黄电化学行为的影响 | 第52-53页 |
| 3.3.7 扫描速率对日落黄和柠檬黄电化学行为的影响 | 第53-54页 |
| 3.3.8 标准曲线 | 第54-56页 |
| 3.3.9 PDDA-Gr-Pd/GC修饰电极的重复性和稳定性 | 第56页 |
| 3.3.10 干扰实验 | 第56页 |
| 3.3.11 实际样品分析 | 第56-57页 |
| 3.4 小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 第四章 PDDA-Gr-Ni修饰电极的制备及对诱惑红的测定 | 第62-78页 |
| 4.1 引言 | 第62-63页 |
| 4.2 实验部分 | 第63-65页 |
| 4.2.1 仪器设备和试剂 | 第63页 |
| 4.2.2 PDDA-Gr-Ni复合物的合成 | 第63-64页 |
| 4.2.3 PDDA-Gr-Ni/GCE修饰电极的制备 | 第64页 |
| 4.2.4 分析过程 | 第64-65页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第65-73页 |
| 4.3.1 电极修饰材料的表征 | 第65-66页 |
| 4.3.2 修饰电极的交流阻抗表征 | 第66-67页 |
| 4.3.3 修饰电极的有效面积和饱和吸附量 | 第67-68页 |
| 4.3.4 诱惑红在修饰电极上的电化学行为 | 第68-69页 |
| 4.3.5 p H对诱惑红电化学行为的影响 | 第69-70页 |
| 4.3.6 修饰材料的滴涂量及富集时间对诱惑红电化学行为的影响 | 第70页 |
| 4.3.7 扫描速率对诱惑红电化学行为的影响 | 第70-72页 |
| 4.3.8 标准曲线 | 第72-73页 |
| 4.3.9 PDDA-Gr-Ni/GCE修饰电极的重复性和稳定性 | 第73页 |
| 4.3.10 干扰实验 | 第73页 |
| 4.3.11 实际样品分析 | 第73页 |
| 4.4 小结 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 第五章 PDDA-Gr-WO3修饰电极的制备及对苋菜红的测定 | 第78-93页 |
| 5.1 引言 | 第78-79页 |
| 5.2 实验部分 | 第79-81页 |
| 5.2.1 仪器设备和试剂 | 第79页 |
| 5.2.2 PDDA-Gr-WO3复合物的合成 | 第79-80页 |
| 5.2.3 PDDA-Gr-WO3/GCE修饰电极的制备 | 第80页 |
| 5.2.4 分析过程 | 第80-81页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第81-90页 |
| 5.3.1 电极修饰材料的表征 | 第81-82页 |
| 5.3.2 修饰电极的交流阻抗表征 | 第82-83页 |
| 5.3.3 修饰电极的有效面积和饱和吸附量 | 第83-84页 |
| 5.3.4 苋菜红在修饰电极上的电化学行为 | 第84-85页 |
| 5.3.5 pH对苋菜红电化学行为的影响 | 第85-86页 |
| 5.3.6 修饰材料的滴涂量及富集时间对苋菜红电化学行为的影响 | 第86页 |
| 5.3.7 扫描速率对苋菜红电化学行为的影响 | 第86-88页 |
| 5.3.8 标准曲线 | 第88-89页 |
| 5.3.9 PDDA-Gr-WO3/GCE修饰电极的重复性和稳定性 | 第89页 |
| 5.3.10 干扰实验 | 第89-90页 |
| 5.3.11 实际样品分析 | 第90页 |
| 5.4 小结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-93页 |
| 第六章 结论 | 第93-95页 |
| 6.1 结论 | 第93-94页 |
| 6.2 建议 | 第94-95页 |
| 个人简历及在校期间发表的学术论文 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96页 |
