| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 薄膜晶体管的基本简介 | 第10-14页 |
| 1.2.1 薄膜晶体管的结构 | 第10-12页 |
| 1.2.2 薄膜晶体管的工作原理 | 第12页 |
| 1.2.3 薄膜晶体管的主要性能参数 | 第12-14页 |
| 1.3 薄膜晶体管的分类 | 第14-16页 |
| 1.3.1 硅基薄膜晶体管 | 第14页 |
| 1.3.2 有机薄膜晶体管 | 第14-15页 |
| 1.3.3 氧化物半导体薄膜晶体管 | 第15-16页 |
| 1.4 薄膜晶体管的应用 | 第16-17页 |
| 1.5 本论文研究背景 | 第17-18页 |
| 1.5.1 SnO_2材料 | 第17页 |
| 1.5.2 NiO 材料 | 第17-18页 |
| 1.6 本论文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 薄膜制备技术及表征方法 | 第22-32页 |
| 2.1 常用薄膜制备技术 | 第22页 |
| 2.2 喷雾热分解的基本原理及设备 | 第22-23页 |
| 2.3 磁控溅射技术的基本原理与设备 | 第23-25页 |
| 2.3.1 磁控溅射技术简介 | 第23-24页 |
| 2.3.2 本文中的磁控溅射设备 | 第24-25页 |
| 2.4 其他常用薄膜沉积技术 | 第25-27页 |
| 2.4.1 脉冲激光沉积 | 第25页 |
| 2.4.2 分子束外延 | 第25-26页 |
| 2.4.3 金属化学气相沉积 | 第26页 |
| 2.4.4 溶胶-凝胶技术 | 第26-27页 |
| 2.5 薄膜的表面形貌与结构表征 | 第27-28页 |
| 2.5.1 X 射线衍射仪 | 第27页 |
| 2.5.2 场发射扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.6 薄膜光学特性表征 | 第28-29页 |
| 2.6.1 紫外可见光分光光度仪 | 第28-29页 |
| 2.7 电学性能表征 | 第29页 |
| 2.7.1 Keithley 4200 半导体特性分析 | 第29页 |
| 2.7.2 霍尔测试分析仪 | 第29页 |
| 2.8 本章小结 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-32页 |
| 第三章 SnO_2薄膜的制备与特性研究 | 第32-38页 |
| 3.1 Si 衬底的清洗 | 第32页 |
| 3.2 SnO_2薄膜的制备 | 第32-33页 |
| 3.2.1 实验制备的工艺条件 | 第32-33页 |
| 3.2.2 SnO_2薄膜制备的实验步骤 | 第33页 |
| 3.3 退火温度对 SnO_2薄膜的光电性能的影响 | 第33-36页 |
| 3.3.1 SnO_2薄膜的 XRD 分析 | 第33-34页 |
| 3.3.2 退火温度对 SnO_2薄膜表面形貌的研究 | 第34-35页 |
| 3.3.3 退火温度对 SnO_2薄膜光学特性的研究 | 第35页 |
| 3.3.4 退火温度对 SnO_2薄膜电学特性的研究 | 第35-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第四章 SnO_2薄膜晶体管的制备与电学性能表征 | 第38-50页 |
| 4.1 SnO_2薄膜晶体管的制备流程 | 第38-39页 |
| 4.2 SnO_2薄膜晶体管的电学性能测试 | 第39-40页 |
| 4.3 不同温度处理的 SnO_2薄膜晶体管电学性能对比 | 第40-42页 |
| 4.4 不同喷嘴与衬底距离的 SnO_2薄膜晶体管电学性能对比 | 第42-44页 |
| 4.5 不同喷涂时间的 SnO_2薄膜晶体管电学性能对比 | 第44-46页 |
| 4.6 优化 SnO_2薄膜晶体管迁移率和开关比 | 第46-48页 |
| 4.7 本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第五章 溅射法制备 NiO 薄膜及 NiO 薄膜晶体管 | 第50-64页 |
| 5.1 P 型氧化物薄膜晶体管的研究意义和进展 | 第50-51页 |
| 5.2 射频磁控溅射法制备 NiO 薄膜 | 第51-52页 |
| 5.3 不同氧氩比对磁控溅射方法制备 NiO 薄膜性质的影响 | 第52-55页 |
| 5.3.1 不同氧氩比对 NiO 薄膜结构的影响 | 第52-53页 |
| 5.3.2 不同氧氩比对 NiO 薄膜光学特性的影响 | 第53-55页 |
| 5.3.3 不同氧氩比对 NiO 薄膜电学性能的影响 | 第55页 |
| 5.4 不同溅射功率对磁控溅射法制备 NiO 薄膜性质的影响 | 第55-58页 |
| 5.4.1 不同溅射功率对 NiO 薄膜结构的影响 | 第56-57页 |
| 5.4.2 不同溅射功率对 NiO 薄膜光学性能的影响 | 第57-58页 |
| 5.4.3 不同溅射功率对 NiO 薄膜电学性能的影响 | 第58页 |
| 5.5 NiO 薄膜晶体管的制备与性能测试 | 第58-60页 |
| 5.5.1 NiO 薄膜晶体管制备流程 | 第58-59页 |
| 5.5.2 NiO 薄膜晶体管电学性能测试 | 第59-60页 |
| 5.6 本章小结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第六章 全文总结 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 附录 攻读硕士期间完成的学术论文目录 | 第68-69页 |
