| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 插图目录 | 第13-16页 |
| 表格目录 | 第16-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-24页 |
| 1.1 ZrO_2薄膜概述 | 第17-20页 |
| 1.1.1 ZrO_2薄膜的结构与性能 | 第17-18页 |
| 1.1.2 ZrO_2薄膜的研究进展 | 第18-20页 |
| 1.2 金属掺杂的ZrO_2薄膜的概述 | 第20-22页 |
| 1.2.1 金属掺杂ZrO_2薄膜的结构与性能 | 第20-21页 |
| 1.2.2 金属掺杂ZrO_2薄膜的研究进展 | 第21-22页 |
| 1.3 论文的研究意义及主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 ZrO_2薄膜的制备及其表征方法 | 第24-30页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第24-26页 |
| 2.2 ZrO_2薄膜的表征方法 | 第26-30页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第26-27页 |
| 2.2.2 热处理 | 第27页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
| 2.2.4 拉曼光谱(Raman spectrum) | 第28页 |
| 2.2.5 薄膜的光学性质测试 | 第28-30页 |
| 第三章 ZrO_2薄膜的结构及其特性 | 第30-49页 |
| 3.1 Si基底上ZrO_2薄膜的结构 | 第30-36页 |
| 3.1.1 不同工作压强下Si基底上制备的ZrO_2薄膜 | 第30-31页 |
| 3.1.2 不同溅射时间下Si基底上制备的ZrO_2薄膜 | 第31-32页 |
| 3.1.3 不同氩氧比率下Si基底上制备的ZrO_2薄膜 | 第32-34页 |
| 3.1.4 不同溅射功率下Si基底上制备的ZrO_2薄膜 | 第34-36页 |
| 3.2 玻璃基底上ZrO_2薄膜的结构 | 第36-41页 |
| 3.2.1 不同氩氧比率下玻璃基底上制备的ZrO_2薄膜 | 第36-37页 |
| 3.2.2 不同溅射功率下玻璃基底上制备的ZrO_2薄膜 | 第37-38页 |
| 3.2.3 不同工作压强和溅射时间下玻璃基底上制备的ZrO_2薄膜 | 第38-41页 |
| 3.3 退火温度对Si基底上制备ZrO_2薄膜结构的影响 | 第41-42页 |
| 3.4 ZrO_2薄膜的表面形貌 | 第42-45页 |
| 3.4.1 最佳制备条件下不同基底上制备的ZrO_2薄膜的表面形貌 | 第42-44页 |
| 3.4.2 退火处理的ZrO_2薄膜表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| 3.5 ZrO_2薄膜的光学特性 | 第45-49页 |
| 3.5.1 ZrO_2薄膜的反射光谱 | 第45-46页 |
| 3.5.2 ZrO_2薄膜的透射光谱 | 第46-49页 |
| 第四章 金属掺杂M-ZrO_2(M=Al,Cu)薄膜结构及其特性 | 第49-68页 |
| 4.1 Si基底上金属掺杂ZrO_2薄膜的结构及其特性 | 第49-58页 |
| 4.1.1 Si基底上制备的M-ZrO_2薄膜的XRD分析 | 第49-53页 |
| 4.1.2 Si基底上制备的M-ZrO_2薄膜的表面形貌及EDX分析 | 第53-57页 |
| 4.1.3 Si基底上制备的M-ZrO_2薄膜的光学特性 | 第57-58页 |
| 4.2 玻璃基底上金属掺杂ZrO_2薄膜的结构及其特性 | 第58-68页 |
| 4.2.1 玻璃基底上制备的M-ZrO_2薄膜的XRD图像 | 第58-62页 |
| 4.2.2 玻璃基底上制备的M-ZrO_2薄膜的表面形貌分析 | 第62-63页 |
| 4.2.3 玻璃基底上制备的M-ZrO_2薄膜的光学特性 | 第63-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第78-79页 |
