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硫化亚铜和氧化锌复合薄膜的制备与特性研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-21页
    1.1 研究背景第11-12页
    1.2 硫化亚铜及其研究现状第12-14页
        1.2.1 Cu_2S 的性质概述第12-13页
        1.2.2 Cu_2S 的研究现状第13-14页
    1.3 氧化锌及其研究现状第14-19页
        1.3.1 ZnO 的性质概述第14页
        1.3.2 ZnO 的研究现状第14-17页
        1.3.3 ZnO 多层膜的研究现状第17-19页
    1.4 本文主要研究内容第19-21页
第二章 硫化亚铜与氧化锌复合薄膜的制备方法及表征手段第21-33页
    2.1 复合薄膜的制备第21-25页
        2.1.1 ZnO 与 Cu_2S 薄膜的制备方法第21页
        2.1.2 磁控溅射法第21-25页
    2.2 复合薄膜的表征第25-33页
        2.2.1 薄膜厚度测量第25页
        2.2.2 X 射线衍射物相分析第25-27页
        2.2.3 扫描电子显微镜第27-28页
        2.2.4 透射谱第28-30页
        2.2.5 薄膜导电性能测试第30-33页
第三章 复合薄膜的光学性质第33-41页
    3.1 反射率和折射率第33-36页
    3.2 单层膜的反射率和折射率第36-37页
    3.3 Cu_2S 与 ZnO 复合薄膜的透射率第37-39页
    3.4 薄膜的折射率和消光系数第39-41页
第四章 磁控溅射法制备 Cu_2S 和 ZnO 薄膜及其表征第41-51页
    4.1 溅射仪器介绍及操作流程第41-44页
        4.1.1 溅射仪器介绍第41-44页
        4.1.2 磁控溅射操作流程第44页
    4.2 ZnO 和 Cu_2S 单层薄膜的制备及光电特性研究第44-49页
        4.2.1 Zn 靶制备 ZnO 薄膜第44-47页
        4.2.2 Cu_2S 靶制备 Cu_2S 薄膜第47-49页
    4.3 本章小结第49-51页
第五章 磁控溅射法制备 Cu_2S,ZnO 复合薄膜及其表征第51-65页
    5.1 复合薄膜的制备第51-63页
        5.1.1 Cu_2S/ZnO 复合薄膜的光电特性第51-55页
        5.1.2 ZnO/Cu_2S 复合薄膜的光电特性第55-58页
        5.1.3 ZnO/Cu_2S/ZnO 复合薄膜的光电特性第58-63页
    5.2 本章小结第63-65页
论文总结第65-67页
参考文献第67-73页
科研成果第73-75页
致谢第75页

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