| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 前言 | 第13-37页 |
| ·纳米半导体材料概述 | 第13-16页 |
| ·纳米半导体材料的光吸收 | 第13-14页 |
| ·纳米半导体材料的光诱导电荷分离与氧化还原作用 | 第14-16页 |
| ·二氧化钛概述 | 第16-33页 |
| ·二氧化钛的微观结构及性质 | 第17-23页 |
| ·二氧化钛的晶体结构 | 第17-19页 |
| ·二氧化钛的能带结构与带隙 | 第19-21页 |
| ·二氧化钛的光电效应原理 | 第21-23页 |
| ·二氧化钛的光生阴极保护 | 第23-29页 |
| ·海洋环境中金属材料的腐蚀与防护 | 第23-26页 |
| ·二氧化钛光生阴极保护 | 第26-28页 |
| ·二氧化钛光生阴极保护的研究现状 | 第28-29页 |
| ·二氧化钛材料的合成 | 第29-33页 |
| ·二氧化钛材料的掺杂与改性 | 第29-32页 |
| ·纳米二氧化钛材料的制备 | 第32-33页 |
| ·TiO_2、SnO_2复合材料的研究 | 第33-35页 |
| ·SnO_2的结构与性质 | 第33-34页 |
| ·TiO_2、SnO_2半导体的复合方式 | 第34-35页 |
| ·立论依据和研究内容 | 第35-37页 |
| 第二章 实验方法 | 第37-45页 |
| ·实验技术 | 第37-42页 |
| ·原料的选择及依据 | 第37-38页 |
| ·实验方案 | 第38-41页 |
| ·溶胶-凝胶法简介 | 第38-40页 |
| ·浸渍-提拉技术简介 | 第40-41页 |
| ·试剂和仪器设备 | 第41-42页 |
| ·材料的表征 | 第42页 |
| ·光电化学性能测试 | 第42-45页 |
| 第三章 TiO_2-SnO_2复合纳米膜的制备及光生阴极保护作用 | 第45-70页 |
| ·样品的制备 | 第45-47页 |
| ·TiO_2溶胶的制备 | 第45-46页 |
| ·TiO_2-SnO_2复合溶胶的制备 | 第46页 |
| ·TiO_2纳米膜、TiO_2-SnO_2复合纳米膜的制备 | 第46-47页 |
| ·溶胶及纳米膜的结构与性能表征 | 第47-60页 |
| ·TiO_2、SnO_2溶胶及其复合溶胶的粒径表征 | 第47-48页 |
| ·TiO_2及TiO_2-SnO_2复合粉体的XRD表征 | 第48-55页 |
| ·TiO_2及TiO_2-SnO_2复合膜的形貌表征 | 第55-57页 |
| ·TiO_2及TiO_2-SnO_2复合纳米膜的EDS表征 | 第57-59页 |
| ·TiO_2及TiO_2-SnO_2复合纳米膜的UV-Vis吸收光谱表征 | 第59-60页 |
| ·TiO_2纳米膜及TiO_2-SnO_2复合纳米膜的光电防腐性能 | 第60-68页 |
| ·开路电位-时间曲线表征 | 第60-64页 |
| ·动电位极化曲线表征 | 第64-66页 |
| ·交流阻抗表征 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第四章 TiO_2/SnO_2复合纳米膜的制备及光生阴极保护作用 | 第70-81页 |
| ·样品的制备 | 第70-71页 |
| ·SnO_2溶胶的制备 | 第70页 |
| ·TiO_2/SnO_2复合膜的制备 | 第70-71页 |
| ·溶胶及TiO_2/SnO_2复合纳米膜的结构与性能表征 | 第71-75页 |
| ·SnO_2溶胶的粒径表征 | 第71页 |
| ·SnO_2粉体的XRD表征 | 第71-73页 |
| ·SnO_2及TiO_2/SnO_2复合纳米膜的SEM表征 | 第73-74页 |
| ·TiO_2/SnO_2复合纳米膜的UV-Vis吸收光谱表征 | 第74-75页 |
| ·TiO_2/SnO_2复合纳米膜的光生阴极保护性能 | 第75-79页 |
| ·开路电位-时间曲线表征 | 第75-76页 |
| ·动电位极化曲线表征 | 第76-77页 |
| ·交流阻抗表征 | 第77-79页 |
| ·本章小结 | 第79-81页 |
| 第五章 结论与展望 | 第81-83页 |
| ·本论文的主要结论 | 第81-82页 |
| ·本论文的主要创新点 | 第82页 |
| ·研究展望 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 硕士期间发表的学术论文 | 第89页 |
