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原子层沉积氧化钴、镧钴氧薄膜及在三维孔道中沉积工艺研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
1 引言第11-18页
    1.1 研究背景第11-14页
    1.2 本论文的主要研究内容及意义第14-18页
2 原子层沉积及高深宽比模板制备工艺和表征方法第18-32页
    2.1 原子层沉积表面化学及工艺参数第18-23页
    2.2 原子层沉积薄膜的生长、成分及表面形貌等表征方法第23-24页
    2.3 高深宽比模板的制备及表征第24-31页
    2.4 本章小结第31-32页
3 原子层沉积氧化钴薄膜及多孔结构包覆性能研究第32-44页
    3.1 引言第32-33页
    3.2 原子层沉积超薄氧化钴薄膜第33-38页
    3.3 氧化钴薄膜在纳米多孔金基底中的包覆性能研究第38-40页
    3.4 氧化钴薄膜生长机理讨论第40-43页
    3.5 本章小结第43-44页
4 原子层沉积制备氧化钴/氧化钛复合材料及光解水性能研究第44-60页
    4.1 引言第44-45页
    4.2 氧化钴/氧化钛纳米管复合材料的制备工艺及表征方法第45-47页
    4.3 氧化钴/氧化钛纳米管复合材料的形貌、成分及界面结构表征第47-52页
    4.4 氧化钴/氧化钛纳米管复合材料的光解水性能研究第52-54页
    4.5 氧化钴/氧化钛纳米管复合材料的能带结构测试及光解水机理研究第54-59页
    4.6 本章小结第59-60页
5 原子层沉积镧钴氧薄膜第60-67页
    5.1 引言第60页
    5.2 原子层沉积单元氧化镧薄膜第60-64页
    5.3 原子层沉积二元金属氧化物镧钴氧第64-65页
    5.4 本章总结第65-67页
总结和展望第67-69页
致谢第69-70页
参考文献第70-83页
硕士期间完成论文第83页

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