摘要 | 第8-9页 |
ABSTRACT | 第9-10页 |
引言 | 第11-13页 |
第一章 绪论 | 第13-41页 |
1.1 加速器的发展概况及应用 | 第13-15页 |
1.1.1 加速器的发展 | 第13-14页 |
1.1.2 加速器的应用 | 第14-15页 |
1.2 加速器用于离子束分析 | 第15-19页 |
1.3 粒子与物质相互作用的基本原理 | 第19-20页 |
1.3.1 带电粒子与物质的相互作用 | 第19-20页 |
1.3.2 γ射线与物质的相互作用 | 第20页 |
1.4 核探测技术 | 第20-24页 |
1.5 基本离子束分析方法 | 第24-40页 |
1.5.1 卢瑟福背散射(RBS)分析 | 第25-30页 |
1.5.2 非卢瑟福背散射(Non-RBS) | 第30-31页 |
1.5.3 弹性反冲探测(ERD)—轻元素分析 | 第31-33页 |
1.5.4 沟道背散射分析 | 第33-35页 |
1.5.5 核反应分析(NRA) | 第35-36页 |
1.5.6 粒子诱发X射线荧光(PIXE)分析 | 第36-40页 |
1.6 本章小结 | 第40-41页 |
第二章 武汉大学离子束系统 | 第41-66页 |
2.1 加速器系统总体布局 | 第41-42页 |
2.2 离子源 | 第42-56页 |
2.2.1 铯溅射负离子源的结构 | 第42-47页 |
2.2.2 铯溅射负离子源的工作原理 | 第47-48页 |
2.2.3 铯溅射负离子源的应用 | 第48-56页 |
2.3 加速与聚焦系统 | 第56-58页 |
2.3.1 高压的产生 | 第56-57页 |
2.3.2 离子束的传输和聚焦 | 第57-58页 |
2.4 离子束分析实验技术 | 第58-64页 |
2.4.1 离子束的引出 | 第58-60页 |
2.4.2 离子束的探测 | 第60-61页 |
2.4.3 能谱校准及能量校准 | 第61-64页 |
2.5 本章小结 | 第64-66页 |
第三章 卢瑟福背散射(RBS)分析 | 第66-86页 |
3.1 卢瑟福背散射(RBS)分析的实验技术 | 第66-68页 |
3.2 RBS测量薄膜厚度及元素组分 | 第68-71页 |
3.3 RBS测量离子注入样品的注入浓度 | 第71-73页 |
3.4 背散射沟道谱分析晶体样品的质量 | 第73-75页 |
3.5 离子束分析能谱的解谱软件 | 第75-84页 |
3.5.1 SIMNRA软件模拟解谱 | 第75-79页 |
3.5.2 Qbasic软件用于RBS解谱 | 第79-84页 |
3.5.3 SIMNRA与Qbasic优缺点比较 | 第84页 |
3.6 本章小结 | 第84-86页 |
第四章 离子束分析测量轻元素 | 第86-102页 |
4.1 非卢瑟福背散射(Non-RBS)分析化合物薄膜中的轻元素 | 第86-95页 |
4.1.1 非卢瑟福背散射(non-RBS)测量MoC薄膜中的轻元素C | 第86-88页 |
4.1.2 1~2 MeV质子测量B元素的弹性散射截面 | 第88-93页 |
4.1.3 non-RBS测量TiBN涂层薄膜中的N和B | 第93-94页 |
4.1.4 非卢瑟福背散射测量TiBCN硬质涂层中轻元素的比例 | 第94-95页 |
4.2 弹性反冲探测(ERD)测量氢元素 | 第95-100页 |
4.2.1 弹性反冲探测的实验条件 | 第96-97页 |
4.2.2 弹性反冲探测的实验结果分析 | 第97-100页 |
4.3 本章小结 | 第100-102页 |
第五章 总结与展望 | 第102-104页 |
参考文献 | 第104-112页 |
攻博期间发表的科研成果 | 第112-114页 |
致谢 | 第114页 |