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基于串列加速器的离子束淺注入技术和离子束分析技术研究

摘要第8-9页
ABSTRACT第9-10页
引言第11-13页
第一章 绪论第13-41页
    1.1 加速器的发展概况及应用第13-15页
        1.1.1 加速器的发展第13-14页
        1.1.2 加速器的应用第14-15页
    1.2 加速器用于离子束分析第15-19页
    1.3 粒子与物质相互作用的基本原理第19-20页
        1.3.1 带电粒子与物质的相互作用第19-20页
        1.3.2 γ射线与物质的相互作用第20页
    1.4 核探测技术第20-24页
    1.5 基本离子束分析方法第24-40页
        1.5.1 卢瑟福背散射(RBS)分析第25-30页
        1.5.2 非卢瑟福背散射(Non-RBS)第30-31页
        1.5.3 弹性反冲探测(ERD)—轻元素分析第31-33页
        1.5.4 沟道背散射分析第33-35页
        1.5.5 核反应分析(NRA)第35-36页
        1.5.6 粒子诱发X射线荧光(PIXE)分析第36-40页
    1.6 本章小结第40-41页
第二章 武汉大学离子束系统第41-66页
    2.1 加速器系统总体布局第41-42页
    2.2 离子源第42-56页
        2.2.1 铯溅射负离子源的结构第42-47页
        2.2.2 铯溅射负离子源的工作原理第47-48页
        2.2.3 铯溅射负离子源的应用第48-56页
    2.3 加速与聚焦系统第56-58页
        2.3.1 高压的产生第56-57页
        2.3.2 离子束的传输和聚焦第57-58页
    2.4 离子束分析实验技术第58-64页
        2.4.1 离子束的引出第58-60页
        2.4.2 离子束的探测第60-61页
        2.4.3 能谱校准及能量校准第61-64页
    2.5 本章小结第64-66页
第三章 卢瑟福背散射(RBS)分析第66-86页
    3.1 卢瑟福背散射(RBS)分析的实验技术第66-68页
    3.2 RBS测量薄膜厚度及元素组分第68-71页
    3.3 RBS测量离子注入样品的注入浓度第71-73页
    3.4 背散射沟道谱分析晶体样品的质量第73-75页
    3.5 离子束分析能谱的解谱软件第75-84页
        3.5.1 SIMNRA软件模拟解谱第75-79页
        3.5.2 Qbasic软件用于RBS解谱第79-84页
        3.5.3 SIMNRA与Qbasic优缺点比较第84页
    3.6 本章小结第84-86页
第四章 离子束分析测量轻元素第86-102页
    4.1 非卢瑟福背散射(Non-RBS)分析化合物薄膜中的轻元素第86-95页
        4.1.1 非卢瑟福背散射(non-RBS)测量MoC薄膜中的轻元素C第86-88页
        4.1.2 1~2 MeV质子测量B元素的弹性散射截面第88-93页
        4.1.3 non-RBS测量TiBN涂层薄膜中的N和B第93-94页
        4.1.4 非卢瑟福背散射测量TiBCN硬质涂层中轻元素的比例第94-95页
    4.2 弹性反冲探测(ERD)测量氢元素第95-100页
        4.2.1 弹性反冲探测的实验条件第96-97页
        4.2.2 弹性反冲探测的实验结果分析第97-100页
    4.3 本章小结第100-102页
第五章 总结与展望第102-104页
参考文献第104-112页
攻博期间发表的科研成果第112-114页
致谢第114页

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