| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-22页 |
| 1.1 碱性无氰镀铜工艺体系及特点 | 第13-15页 |
| 1.1.1 柠檬酸体系 | 第13-14页 |
| 1.1.2 硫酸盐体系 | 第14页 |
| 1.1.3 焦磷酸盐体系 | 第14-15页 |
| 1.1.4 有机膦酸盐体系 | 第15页 |
| 1.2 配位物稳定常数的测定方法 | 第15-18页 |
| 1.2.1 分光光度法 | 第15-17页 |
| 1.2.1.1 两点法求稳定常数 | 第16页 |
| 1.2.1.2 切线法求稳定常数 | 第16-17页 |
| 1.2.2 电化学法 | 第17-18页 |
| 1.2.2.1 点位滴定法 | 第17-18页 |
| 1.2.2.2 极谱法 | 第18页 |
| 1.3 金属电沉积 | 第18-20页 |
| 1.3.1 金属电沉积原理 | 第18-19页 |
| 1.3.2 金属电沉积在混合控制下的极化特征 | 第19页 |
| 1.3.3 金属电沉积的电化学研究方法 | 第19-20页 |
| 1.3.3.1 线性扫描伏安法 | 第19-20页 |
| 1.3.3.2 循环伏安法 | 第20页 |
| 1.3.3.3 交流阻抗技术 | 第20页 |
| 1.4 研究内容及创新点 | 第20-22页 |
| 第二章 实验方法 | 第22-26页 |
| 2.1 药品与仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第22-23页 |
| 2.1.2 仪器 | 第23页 |
| 2.2 测试方法 | 第23-26页 |
| 2.2.1 pH滴定方法 | 第23-24页 |
| 2.2.2 线性扫描、循环伏安扫描 | 第24页 |
| 2.2.3 SEM测试 | 第24-26页 |
| 第三章 HEDPA体系中锌合金超声电沉积铜研究 | 第26-36页 |
| 3.1 实验部分 | 第26-27页 |
| 3.1.1 镀液组成和镀层分析 | 第26-27页 |
| 3.1.2 电化学测试 | 第27页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第27-34页 |
| 3.2.1 锌合金压铸件界面模型和前处理 | 第27-29页 |
| 3.2.2 锌合金压铸件基体的超声波辅助电沉积 | 第29-31页 |
| 3.2.3 超声波辅助电沉积机理分析 | 第31-34页 |
| 3.3 本章小结 | 第34-36页 |
| 第四章 亚甲基氨基二膦酸的合成 | 第36-50页 |
| 4.1 实验研究方法 | 第38页 |
| 4.1.1 核磁 | 第38页 |
| 4.1.2 红外 | 第38页 |
| 4.1.3 低分辨率质谱 | 第38页 |
| 4.2 实验部分 | 第38-41页 |
| 4.3 结果与分析 | 第41-45页 |
| 4.3.1 核磁分析 | 第41-43页 |
| 4.3.2 红外分析 | 第43-44页 |
| 4.3.3 质谱分析 | 第44-45页 |
| 4.4 AMDPA配位体系的解离常数与稳定常数 | 第45-49页 |
| 4.4.1 AMDPA的解离常数 | 第45-47页 |
| 4.4.2 AMDPA-Cu(Ⅱ)配位稳定常数 | 第47-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 AMDPA体系电沉积铜的电化学行为研究 | 第50-56页 |
| 5.1 实验方法 | 第50页 |
| 5.1.1 AMDPA镀液配制 | 第50页 |
| 5.1.2 电化学测试 | 第50页 |
| 5.2 结果与分析 | 第50-54页 |
| 5.2.1 AMDPA-Cu(Ⅱ)与HEDP-Cu(Ⅱ)体系极化曲线对比 | 第50-51页 |
| 5.2.2 AMDPA-Cu(Ⅱ)在不同的扫描速率下的电化学行为 | 第51-53页 |
| 5.2.3 pH对AMDPA-Cu(Ⅱ)体系的电化学行为影响 | 第53-54页 |
| 5.3 本章小结 | 第54-56页 |
| 第六章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 6.1 总结 | 第56-57页 |
| 6.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 硕士期间发表的学术论文 | 第68页 |
