| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 长余辉发光材料分类 | 第12-14页 |
| 1.2.1 硫化物系列长余辉发光材料 | 第12-13页 |
| 1.2.2 铝酸盐系列长余辉发光材料 | 第13页 |
| 1.2.3 硅酸盐系列长余辉发光材料 | 第13-14页 |
| 1.3 长余辉发光材料的主要应用性能 | 第14-15页 |
| 1.3.1 耐水性能 | 第14-15页 |
| 1.3.2 热稳定性能 | 第15页 |
| 1.3.3 化学稳定性能 | 第15页 |
| 1.4 焦硅酸盐材料简介 | 第15-18页 |
| 1.4.1 硅酸镁锶(Sr_2MgSi_2O_7)的结构 | 第16页 |
| 1.4.2 硅酸镁锶荧光粉(Sr_2MgSi_2O_7: Eu~(2+), Dy~(3+))的发光机理 | 第16-18页 |
| 1.5 长余辉荧光粉体的表面包覆改性 | 第18-22页 |
| 1.5.1 包覆材料的选择 | 第18-19页 |
| 1.5.2 长余辉荧光粉体的表面包覆改性方法 | 第19-21页 |
| 1.5.3 长余辉荧光粉体的包覆改性机理 | 第21-22页 |
| 1.6 硅酸盐长余辉发光材料的包覆改性的研究现状 | 第22-23页 |
| 1.7 本文研究的目的、意义及主要内容 | 第23-25页 |
| 1.7.1 本文研究的目的和意义 | 第23-24页 |
| 1.7.2 本文研究的主要内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验方法及表征 | 第25-30页 |
| 2.1 实验原料及仪器设备 | 第25-26页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第25页 |
| 2.1.2 实验仪器及设备 | 第25-26页 |
| 2.2 实验流程 | 第26-28页 |
| 2.3 测试与表征 | 第28-30页 |
| 2.3.1 X射线粉末衍射 (XRD) | 第28-29页 |
| 2.3.2 扫描电子显微测试 (SEM) | 第29页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜(TEM) | 第29页 |
| 2.3.4 同步综合热分析(TG-DSC) | 第29页 |
| 2.3.5 傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第29页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第29页 |
| 2.3.7 荧光光谱测试(PL) | 第29-30页 |
| 第三章 硅酸镁锶荧光粉的SiO_2包覆改性 | 第30-53页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 硅酸镁锶荧光粉的性能 | 第30-33页 |
| 3.2.1 表面形貌分析 | 第30-31页 |
| 3.2.2 XRD晶相分析 | 第31页 |
| 3.2.3 TG-DSC分析 | 第31-32页 |
| 3.2.4 发光性能 | 第32-33页 |
| 3.3 包覆量对硅酸镁锶荧光粉性能的影响 | 第33-36页 |
| 3.3.1 包覆量对硅酸镁锶荧光粉表面形貌的影响 | 第34页 |
| 3.3.2 包覆量对硅酸镁锶荧光粉晶相的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.3 包覆量对硅酸镁锶荧光粉热稳定性的影响 | 第35-36页 |
| 3.4 水浴温度对硅酸镁锶荧光粉性能的影响 | 第36-38页 |
| 3.4.1 水浴温度对硅酸镁锶荧光粉表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| 3.4.2 水浴温度对硅酸镁锶荧光粉发光性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.5 pH值对硅酸镁锶荧光粉性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.5.1 pH值对硅酸镁锶荧光粉发光性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.5.2 pH值对硅酸镁锶荧光粉热稳定性的影响 | 第39-40页 |
| 3.6 最佳包覆工艺参数下硅酸镁锶荧光粉的性能 | 第40-44页 |
| 3.6.1 TG-DSC分析 | 第40-41页 |
| 3.6.2 表面形貌分析 | 第41页 |
| 3.6.3 发光性能分析 | 第41-43页 |
| 3.6.4 SiO_2包覆改性机理探究 | 第43-44页 |
| 3.7 热处理温度对硅酸镁锶荧光粉性能的影响 | 第44-51页 |
| 3.7.1 热处理温度对硅酸镁锶荧光粉表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| 3.7.2 热处理温度对硅酸镁锶荧光粉表面结构的影响 | 第45-46页 |
| 3.7.3 热处理温度对硅酸镁锶荧光粉晶体结构的影响 | 第46-49页 |
| 3.7.4 热处理温度对硅酸镁锶荧光粉抗高温氧化性能的影响 | 第49-51页 |
| 3.8 热处理时间对硅酸镁锶荧光粉热稳定性的影响 | 第51-52页 |
| 3.9 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 硅酸镁锶荧光粉的γ-AlOOH包覆改性 | 第53-72页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 硅酸镁锶荧光粉包覆后的性能 | 第53-59页 |
| 4.2.1 XRD晶相分析 | 第53-56页 |
| 4.2.2 TG-DSC分析 | 第56-58页 |
| 4.2.3 表面形貌分析 | 第58-59页 |
| 4.3 Al~(3+)浓度对硅酸镁锶荧光粉性能的影响 | 第59-64页 |
| 4.3.1 Al~(3+)浓度对硅酸镁锶荧光粉表面形貌的影响 | 第59-61页 |
| 4.3.2 Al~(3+)浓度对硅酸镁锶荧光粉发光性能的影响 | 第61-62页 |
| 4.3.3 Al~(3+)浓度对硅酸镁锶荧光粉热稳定性的影响 | 第62-64页 |
| 4.4 pH值对硅酸镁锶荧光粉性能的影响 | 第64-66页 |
| 4.4.1 pH值对硅酸镁锶荧光粉表面形貌的影响 | 第64-65页 |
| 4.4.2 pH值对硅酸镁锶荧光粉发光性能的影响 | 第65-66页 |
| 4.5 包覆量对硅酸镁锶荧光粉性能的影响 | 第66-68页 |
| 4.5.1 包覆量对硅酸镁锶荧光粉表面形貌的影响 | 第66页 |
| 4.5.2 包覆量对硅酸镁锶荧光粉发光性能的影响 | 第66-67页 |
| 4.5.3 包覆量对硅酸镁锶荧光粉热稳定性的影响 | 第67-68页 |
| 4.6 热处理温度对硅酸镁锶荧光粉性能的影响 | 第68-71页 |
| 4.6.1 热处理温度对硅酸镁锶荧光粉表面形貌的影响 | 第68-69页 |
| 4.6.2 热处理温度对硅酸镁锶荧光粉热稳定性的影响 | 第69-71页 |
| 4.7 本章小结 | 第71-72页 |
| 结论与展望 | 第72-74页 |
| 一、主要研究结论 | 第72-73页 |
| 二、创新之处 | 第73页 |
| 三、工作展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 附件 | 第84页 |
