| 摘要 | 第10-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 全氟辛酸的特点和来源 | 第13-15页 |
| 1.3 全氟辛酸的污染现状 | 第15-16页 |
| 1.4 全氟辛酸的检测方法 | 第16页 |
| 1.5 全氟辛酸的降解处理方法 | 第16-19页 |
| 1.6 低温等离子体技术 | 第19-21页 |
| 1.6.1 低温等离子体的定义 | 第19-20页 |
| 1.6.2 低温等离子体的产生原理和产生方法 | 第20-21页 |
| 1.7 介质阻挡放电产生低温等离子体的降解机理 | 第21-22页 |
| 1.7.1 高能电子 | 第21页 |
| 1.7.2 臭氧氧化 | 第21-22页 |
| 1.7.3 紫外光分解 | 第22页 |
| 1.8 二氧化钛光催化剂的研究 | 第22-25页 |
| 1.8.1 二氧化钛的发展背景 | 第22-23页 |
| 1.8.2 三种二氧化钛的晶型区别 | 第23-24页 |
| 1.8.3 二氧化钛的光催化原理 | 第24-25页 |
| 1.9 实验探究目标 | 第25-26页 |
| 1.10 实验创新点 | 第26-27页 |
| 第二章 溶胶—凝胶法制备二氧化钛蜂窝陶瓷的研究 | 第27-31页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 二氧化钛薄膜的制备 | 第27-28页 |
| 2.3 溶胶-凝胶法制备二氧化钛薄膜实验步骤 | 第28-29页 |
| 2.4 实验结果与讨论 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 不同条件下低温等离子体处理水中全氟辛酸的研究 | 第31-53页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 实验试剂、仪器及实验装置 | 第31-34页 |
| 3.3 分析方法 | 第34-36页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第36-51页 |
| 3.4.1 全氟辛酸模拟废水浓度随时间的变化 | 第36-37页 |
| 3.4.2 起始浓度对全氟辛酸模拟废水降解效率的影响 | 第37-39页 |
| 3.4.3 电压对全氟辛酸废水降解效率的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.4 起始电导率及不同离子对全氟辛酸模拟废水去除效率的影响 | 第40-42页 |
| 3.4.5 起始pH对全氟辛酸模拟废水去除效率的影响 | 第42-43页 |
| 3.4.6 Fe~(2+)对全氟辛酸模拟废水去除效率的影响 | 第43-45页 |
| 3.4.7 过氧化氢对全氟辛酸溶液去除效率的影响 | 第45-47页 |
| 3.4.8 正丁醇对全氟辛酸模拟废水去除效率的影响 | 第47-48页 |
| 3.4.9 二氧化钛对全氟辛酸模拟废水去除效率的影响 | 第48-49页 |
| 3.4.10 降解后静置对全氟辛酸溶液的去除效率影响 | 第49-50页 |
| 3.4.11 介质阻挡放电去除水中全氟辛酸溶液多因素正交试验研究 | 第50-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 全氟辛酸模拟废水降解过程研究 | 第53-59页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 实验试剂及仪器 | 第53页 |
| 4.3 分析方法 | 第53-54页 |
| 4.4 实验结果与讨论 | 第54-58页 |
| 4.4.1 全氟辛酸模拟废水处理过程中pH和电导率的变化 | 第54-56页 |
| 4.4.2 反应过程中TOC的变化 | 第56-57页 |
| 4.4.3 反应过程中羟基自由基的变化 | 第57-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 全氟辛酸废水的降解机理研究 | 第59-65页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 实验材料与仪器 | 第59页 |
| 5.3 质谱图分析结果与讨论 | 第59-63页 |
| 5.4 全氟辛酸降解机理和降解路线的探讨 | 第63-65页 |
| 第六章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 结论 | 第65-66页 |
| 6.2 创新点 | 第66页 |
| 6.3 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读硕士期间论文发表情况 | 第75-76页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第76页 |
