| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-27页 |
| ·导言 | 第15-16页 |
| ·纳米多层薄膜性能及研究概况 | 第16-17页 |
| ·纳米多层薄膜材料的制备技术 | 第17-22页 |
| ·电弧离子镀 | 第18-19页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第19页 |
| ·磁控溅射技术 | 第19-22页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的性能 | 第22-25页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的机械性能 | 第22-24页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的光学性能 | 第24-25页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的耐蚀性能 | 第25页 |
| ·课题的提出 | 第25-27页 |
| 第二章 实验原理与方法 | 第27-35页 |
| ·实验研究思路 | 第27-28页 |
| ·实验仪器介绍 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射设备的基本结构与组成 | 第28页 |
| ·靶的结构尺寸及多基片结构 | 第28-29页 |
| ·烘烤照明装置 | 第29页 |
| ·实验材料 | 第29-30页 |
| ·反应气体 | 第29-30页 |
| ·溅射靶材 | 第30页 |
| ·溅射基片 | 第30页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的工艺流程 | 第30-31页 |
| ·薄膜的微观分析 | 第31-32页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的性能研究 | 第32-35页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜膜层厚度的测量 | 第32-33页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的硬度与杨氏模量测试 | 第33页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的透光率测试 | 第33页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的抗腐蚀性能 | 第33-35页 |
| 第三章 Ti/TiN多层薄膜的沉积工艺 | 第35-53页 |
| ·TiN薄膜基本沉积参数的设定 | 第35-38页 |
| ·TiN薄膜沉积参数 | 第35-36页 |
| ·设定条件下沉积TiN薄膜的结构与形貌 | 第36-38页 |
| ·Ti薄膜基本沉积参数的设定 | 第38-39页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜基本沉积参数的设定 | 第39-43页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜基本沉积参数 | 第39-40页 |
| ·设定工艺参数下沉积Ti/TiN薄膜的结构分析 | 第40-42页 |
| ·设定工艺参数下沉积Ti/TiN薄膜的形貌分析 | 第42-43页 |
| ·Ti/TiN多层薄膜的生长速率 | 第43页 |
| ·工艺参数对Ti/TiN多层薄膜的结构与形貌的影响 | 第43-51页 |
| ·氩氮气流量比对于Ti/TiN多层薄膜的影响 | 第43-46页 |
| ·腔体压力对于Ti/TiN多层薄膜的影响 | 第46-47页 |
| ·靶电流对于Ti/TiN多层薄膜的影响 | 第47-49页 |
| ·温度对于Ti/TiN多层薄膜的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 Ti/TiN多层薄膜的力学性能研究 | 第53-61页 |
| ·氩氮流量比对薄膜力学性能的影响 | 第53-54页 |
| ·腔体气压对薄膜力学性能的影响 | 第54-55页 |
| ·靶电流对于薄膜的力学性能的影响 | 第55页 |
| ·衬底温度对于薄膜的力学性能的影响 | 第55页 |
| ·调制周期对于薄膜的力学性能的影响 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-61页 |
| 第五章 Ti/TiN多层薄膜透光性能的研究 | 第61-71页 |
| ·氩氮流量比对薄膜透光性的影响 | 第61-63页 |
| ·腔体压力对薄膜透光性的影响 | 第63-65页 |
| ·靶电流对薄膜透光性的影响 | 第65-67页 |
| ·衬底温度对薄膜透光性的影响 | 第67-69页 |
| ·沉积时间对薄膜透光性的影响 | 第69页 |
| ·本章小节 | 第69-71页 |
| 第六章 Ti/TiN多层薄膜的抗腐蚀性能研究 | 第71-73页 |
| ·氩氮气流量比对于Ti/TiN多层薄膜耐蚀性的影响 | 第71-72页 |
| ·衬底温度对于Ti/TiN多层薄膜耐蚀性的影响 | 第72-73页 |
| 第七章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第81-83页 |
| 作者和导师简介 | 第83-84页 |
| 附录 | 第84-85页 |