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Al-Si-W合金电子封装材料制备及性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第10-24页
    1.1 课题研究背景及意义第10-12页
    1.2 电子封装及常用封装材料第12-17页
        1.2.1 电子封装材料性能要求第12-13页
        1.2.2 传统电子封装材料及分类第13-15页
        1.2.3 超高硅铝合金研究现状第15-17页
    1.3 硅铝合金主要制备工艺与目前主要问题第17-22页
        1.3.1 熔炼铸造法第18页
        1.3.2 喷射沉积法第18-19页
        1.3.3 熔体浸渗法第19-21页
        1.3.4 粉末冶金法第21-22页
        1.3.5 高硅铝合金目前存在的研究问题第22页
    1.4 本论文研究内容第22-24页
第2章 Al-Si-W合金材料制备和试验方法第24-33页
    2.1 实验材料准备第24-25页
    2.2 材料制备方案第25-29页
        2.2.1 材料成分设计第26-27页
        2.2.2 混粉第27页
        2.2.3 粉末冶金工艺第27-29页
    2.3 显微组织观察与性能表征第29-30页
        2.3.1 金相试样制备及光学显微镜观察第29-30页
        2.3.2 扫描电镜观察及能谱分析第30页
        2.3.3 物相分析第30页
    2.4 Al-Si-W三元合金热物理性能及力学性能检测第30-33页
        2.4.1 热膨胀系数检测第30-31页
        2.4.2 材料热导率检测第31页
        2.4.3 拉伸性能检测第31页
        2.4.4 密度检测第31-32页
        2.4.5 气密性检测第32-33页
第3章 Al-60Si-20W合金制备与组织分析第33-54页
    3.1 引言第33页
    3.2 Al-Si-W合金成分设计及制备第33-34页
        3.2.1 Al-Si-W合金成分设计第33页
        3.2.2 Al-Si-W合金粉末冶金工艺参数第33-34页
    3.3 Al-Si-W合金粉末冶金工艺参数研究第34-51页
        3.3.1 混粉时间对Al-60Si-20W合金组织影响第35-38页
        3.3.2 Al-Si-W合金冷压工艺第38-41页
        3.3.3 粉末冷压工艺制定第41-43页
        3.3.4 梯度压力热压致密化工艺理论第43-45页
        3.3.5 分级加压压力实现过程第45-47页
        3.3.6 烧结温度对Al-60Si-20W合金显微组织的影响第47-49页
        3.3.7 保温时间对Al-60Si-20W合金显微组织的影响第49-51页
    3.4 Al-60Si-20W合金与Al-70Si合金组织与性能比较第51-52页
        3.4.1 Al-60Si-20W合金与Al-70Si合金显微组织第51-52页
        3.4.2 Al-60Si-20W合金与Al-70Si合金热物理性能第52页
    3.5 本章小结第52-54页
第4章W含量对Al-Si-W合金组织与性能影响第54-74页
    4.1 引言第54页
    4.2 W含量对Al-Si合金组织的影响第54-56页
    4.3 Al-Si-W合金热物理性能研究第56-68页
        4.3.1 W含量对Al-Si-W合金热膨胀系数影响第57-62页
        4.3.2 W含量对Al-Si-W合金热导率影响第62-66页
        4.3.3 W含量对Al-Si-W合金密度影响第66-67页
        4.3.4 Al-Si-W合金气密性第67-68页
    4.4 Al-Si-W合金力学性能分析第68-71页
        4.4.1 Al-Si-W合金的抗拉强度第68-69页
        4.4.2 Al-Si-W合金拉伸断口分析第69-71页
    4.5 Al-Si-W合金机械加工性能与镀涂性能第71-72页
    4.6 本章小结第72-74页
结论第74-75页
参考文献第75-81页
致谢第81页

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