| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第11-13页 |
| 第一章 集成电路布图设计的独创性认定现状 | 第13-16页 |
| 第一节 集成电路布图设计独创性的立法现状 | 第13-14页 |
| 第二节 集成电路布图设计的独创性认定的困难性 | 第14-16页 |
| 第二章 集成电路布图设计独创性的内涵 | 第16-21页 |
| 第一节 集成电路布图设计独创性与作品独创性的区别 | 第17-19页 |
| 第二节 集成电路布图设计的创作高度问题 | 第19-21页 |
| 一、 集成电路布图设计创作高度与作品创作高度的比较 | 第19-20页 |
| 二、 集成电路布图设计创作高度与发明创作高度的比较 | 第20-21页 |
| 第三章 司法实践中集成电路布图设计的独创性认定 | 第21-31页 |
| 第一节 被侵权布图设计的独创性认定 | 第21-23页 |
| 第二节 反向工程侵权抗辩与独创性的关系 | 第23-25页 |
| 第三节 反向工程侵权抗辩认定带来的启示 | 第25-31页 |
| 一、 “书面痕迹”标准的启示 | 第25-27页 |
| 二、 实质性相同标准的启示 | 第27-29页 |
| 三、 性能优化标准的启示 | 第29-30页 |
| 四、 功能进步标准的启示 | 第30-31页 |
| 第四章 对我国集成电路布图设计独创性认定的建议 | 第31-41页 |
| 第一节 思想与表达二分法—找出独创性评价的对象 | 第31-32页 |
| 第二节 独创性之独立完成的认定 | 第32-33页 |
| 第三节 独创性之创作高度的认定 | 第33-41页 |
| 一、 国外作品创作高度认定理论的借鉴 | 第33-35页 |
| 二、 影响创作高度认定的因素 | 第35-37页 |
| 三、 我国应该采用的创作高度认定标准 | 第37-41页 |
| 结语 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-47页 |
| 在读期间发表的学术论文与研究成果 | 第47-48页 |
| 后记 | 第48-49页 |