摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-14页 |
·ZnO的基本性质 | 第9-11页 |
·ZnO的晶体结构 | 第9页 |
·ZnO的光学性质 | 第9-10页 |
·ZnO的电学性质 | 第10-11页 |
·ZnO的能带结构 | 第11页 |
·ZnO的应用 | 第11-12页 |
·短波长光电子器件 | 第11-12页 |
·透明导电膜 | 第12页 |
·表面声波器件(SAW) | 第12页 |
·交流纳米发电机 | 第12页 |
·ZnO薄膜的制备技术 | 第12-14页 |
·脉冲激光沉积(PLD) | 第12-13页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第13页 |
·磁控溅射(Sputtering) | 第13页 |
·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第13-14页 |
2 薄膜样品的制备及分析 | 第14-23页 |
·样品的制备方法 | 第14-15页 |
·脉冲激光沉积(PLD)原理 | 第14-15页 |
·设备简介 | 第15-16页 |
·抽气系统 | 第15页 |
·送气系统 | 第15页 |
·旋转靶台系统 | 第15-16页 |
·基片加热和控制系统 | 第16页 |
·薄膜分析方法 | 第16-23页 |
·X射线衍射(X-ray diffraction,XRD) | 第16-18页 |
·原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM) | 第18-19页 |
·扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM) | 第19-20页 |
·光致发光(Photoluminescence,PL) | 第20-21页 |
·电子探针显微分析(Electron Probe Microanalysis,EPMA) | 第21-23页 |
3 氧分压对ZnO薄膜结晶质量和光学特性的影响 | 第23-33页 |
·ZnO薄膜的制备 | 第23页 |
·结果与分析 | 第23-32页 |
·样品组织的SEM分析 | 第23-26页 |
·样品结构的XRD分析 | 第26-29页 |
·样品光学性能的PL分析 | 第29-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
4 激光能量对ZnO薄膜结晶质量和光学特性的影响 | 第33-40页 |
·ZnO薄膜的制备 | 第33页 |
·结果与分析 | 第33-39页 |
·样品组织的AFM分析 | 第33-35页 |
·样品结构的XRD分析 | 第35-37页 |
·激光能量对薄膜生长速率的影响 | 第37-38页 |
·样品光学性能的PL分析 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
5 ZnO:P薄膜结晶质量和光学特性 | 第40-49页 |
·ZnO薄膜的制备 | 第40页 |
·结果与分析 | 第40-48页 |
·ZnO:P薄膜中P含量分析 | 第40-41页 |
·ZnO:P薄膜的SEM分析 | 第41-44页 |
·样品结构的XRD分析 | 第44-46页 |
·样品光学性能的PL分析 | 第46-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-52页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第52-53页 |
致谢 | 第53-54页 |