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散射成像技术的研究及其应用

致谢第5-7页
摘要第7-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第11-18页
    1.1 引言第11页
    1.2 散射成像技术的发展现状第11-15页
    1.3 本论文研究主要内容、意义第15-16页
    1.4 本论文的结构框架第16-18页
第2章 液晶空间光调制器相位调制特性研究第18-32页
    2.1 空间光调制器简介第18-22页
        2.1.1 空间光调制器的定义与分类第18-20页
        2.1.2 空间光调制器的应用第20-22页
    2.2 液晶空间光调制器相位调制特性原理第22-27页
        2.2.1 晶体的双折射现象第22-24页
        2.2.2 液晶的电控双折射效应第24-27页
    2.3 液晶空间光调制器相位调制特性的实验研究第27-31页
        2.3.1 光路设计第27-29页
        2.3.2 实验结果第29-31页
    2.4 本章小结第31-32页
第3章 波前校正技术的研究第32-48页
    3.1 波前校正技术原理第32-35页
    3.2 波前校正调制算法的研究第35-38页
    3.3 点光源成像第38-46页
        3.3.1 实验装置介绍第38-40页
        3.3.2 控制软件设计第40-43页
        3.3.3 实验结果第43-46页
    3.4 本章小结第46-48页
第4章 强散射介质内部目标的探测第48-57页
    4.1 光学记忆效应第48-50页
    4.2 光路设计与探测方案第50-52页
    4.3 结果分析第52-56页
    4.4 本章小结第56-57页
第5章 总结与展望第57-60页
参考文献第60-63页
作者简历第63页

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