几种自相关过程控制图的效果研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-14页 |
1.1 研究的背景及意义 | 第9-10页 |
1.2 自相关过程控制图国内外研究现状 | 第10-12页 |
1.3 本文研究内容与结构 | 第12-14页 |
第二章 自相关过程介绍 | 第14-26页 |
2.1 自相关过程及其识别 | 第14-18页 |
2.1.1 自相关过程的产生原因及影响 | 第14-16页 |
2.1.2 自相关过程的识别方法 | 第16-18页 |
2.2 时间序列分析模型 | 第18-25页 |
2.2.1 时间序列的平稳性 | 第18-20页 |
2.2.2 常见平稳时间序列模型 | 第20-21页 |
2.2.3 平稳时间序列模型的识别 | 第21-25页 |
2.3 本章小结 | 第25-26页 |
第三章 常规控制图的理论 | 第26-43页 |
3.1 统计过程控制概述 | 第26-28页 |
3.1.1 过程控制中的两种原因 | 第27-28页 |
3.1.2 统计过程控制的两种状态 | 第28页 |
3.2 质量控制图 | 第28-34页 |
3.2.1 控制图的原理与结构 | 第28-31页 |
3.2.2 两种错误及决策准则 | 第31-32页 |
3.2.3 控制图性能评价 | 第32-34页 |
3.3 质量控制中常用的控制图 | 第34-38页 |
3.3.1 休哈特控制图——单值控制图 | 第34-35页 |
3.3.2 累积和控制图 | 第35-37页 |
3.3.3 指数加权移动平均控制图 | 第37-38页 |
3.4 几种常用控制图控制效果分析 | 第38-42页 |
3.4.1 数据生成 | 第38-39页 |
3.4.2 休哈特控制图 | 第39-40页 |
3.4.3 CUSUM控制图 | 第40-41页 |
3.4.4 EWMA控制图 | 第41-42页 |
3.5 本章小结 | 第42-43页 |
第四章 残差控制图 | 第43-53页 |
4.1 残差控制图 | 第43-44页 |
4.1.1 残差控制图原理 | 第43-44页 |
4.1.2 残差控制图的具体流程 | 第44页 |
4.2 残差EWMA控制图 | 第44-45页 |
4.3 残差CUSUM控制图 | 第45-46页 |
4.4 残差控制图数值实验 | 第46-52页 |
4.5 本章小结 | 第52-53页 |
第五章 自相关过程的改进型控制图 | 第53-64页 |
5.1 改进的EWMA控制图 | 第53-55页 |
5.1.1 对EWMA控制图改进的理论基础 | 第53-54页 |
5.1.2 改进的EWMA控制图的实现步骤 | 第54-55页 |
5.2 改进的CUSUM控制图 | 第55-57页 |
5.2.1 对CUSUM控制图改进的理论基础 | 第55-56页 |
5.2.2 改进CUSUM控制图的实现步骤 | 第56-57页 |
5.3 改进控制图数值实验 | 第57-63页 |
5.3.1 改进的EWMA控制图 | 第57-60页 |
5.3.2 改进的CUSUM控制图 | 第60-63页 |
5.4 本章小结 | 第63-64页 |
第六章 结论与展望 | 第64-65页 |
6.1 论文主要研究成果 | 第64页 |
6.2 需要进一步研究的问题 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-69页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |