磁性薄膜磁性能调控的研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 软磁薄膜 | 第10-13页 |
| 1.3 主要研究工作 | 第13-15页 |
| 参考文献 | 第15-17页 |
| 第二章 相关理论基础 | 第17-30页 |
| 2.1 磁性材料的各向异性 | 第17-23页 |
| 2.1.1 磁晶各向异性 | 第17-20页 |
| 2.1.2 形状磁各向异性 | 第20-21页 |
| 2.1.3 应力磁各向异性 | 第21-22页 |
| 2.1.4 表面和界面磁各向异性 | 第22-23页 |
| 2.2 LLG方程及高频磁导率 | 第23-24页 |
| 2.3 铁磁性薄膜中的磁损耗机制 | 第24-28页 |
| 2.3.1 本征损耗 | 第24-26页 |
| 2.3.2 双磁子散射 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-30页 |
| 第三章 样品的制备与表征 | 第30-43页 |
| 3.1 磁性薄膜样品的制备 | 第30-35页 |
| 3.1.1 磁控溅射的原理 | 第30-32页 |
| 3.1.2 样品制备流程 | 第32-34页 |
| 3.1.3 样品后续处理 | 第34-35页 |
| 3.2 样品的表征 | 第35-42页 |
| 3.2.1 薄膜厚度的测量 | 第35页 |
| 3.2.2 表面形貌的表征 | 第35-36页 |
| 3.2.3 材料内部结构分析 | 第36页 |
| 3.2.4 薄膜电阻率测量 | 第36-37页 |
| 3.2.5 磁性薄膜静态磁性测量 | 第37-39页 |
| 3.2.6 磁性薄膜动态磁性测量 | 第39-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 第四章 磁性薄膜磁性能调控的研究 | 第43-61页 |
| 4.1 界面修饰对磁性薄膜性能的调控 | 第43-53页 |
| 4.1.1 样品制备及表征 | 第44-45页 |
| 4.1.2 样品的静磁特性研究 | 第45-49页 |
| 4.1.3 样品高频特性研究 | 第49-52页 |
| 4.1.4 小结 | 第52-53页 |
| 4.2 极化电子隧穿对于层间相互作用影响的探讨 | 第53-59页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第53-54页 |
| 4.2.2 静磁表征及分析 | 第54-57页 |
| 4.2.3 小结和展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
