负载波形及参数对镁合金微弧氧化膜层的影响
| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 插图索引 | 第9-11页 |
| 插表索引 | 第11-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| ·镁合金及其耐蚀性 | 第12-16页 |
| ·镁合金的应用 | 第12-13页 |
| ·镁合金的耐蚀性 | 第13-14页 |
| ·镁合金的防腐蚀方法 | 第14-16页 |
| ·微弧氧化技术研究现状 | 第16-23页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化技术研究现状 | 第17页 |
| ·微弧氧化技术的影响因素 | 第17-22页 |
| ·微弧氧化电源研究现状 | 第22-23页 |
| ·问题的提出及研究内容 | 第23-25页 |
| ·问题的提出 | 第23页 |
| ·研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 微弧氧化实验材料与实验方法 | 第25-30页 |
| ·实验材料及制备 | 第25-26页 |
| ·实验设备 | 第26-27页 |
| ·实验装置 | 第27-28页 |
| ·实验方法 | 第28页 |
| ·实验方案 | 第28-30页 |
| 第3章 镁合金微弧氧化机理及对电源的要求 | 第30-48页 |
| ·微区电弧放电机理及模型 | 第30-35页 |
| ·微区电弧放电的4个过程 | 第30-31页 |
| ·镁合金微弧氧化成膜的条件 | 第31-35页 |
| ·膜层生长机理 | 第35-39页 |
| ·微弧氧化成膜过程的三阶段 | 第35-36页 |
| ·微弧氧化成膜过程各阶段膜层形貌分析 | 第36-38页 |
| ·微弧氧化成膜过程各阶段的膜层成分分析 | 第38-39页 |
| ·微弧氧化对电源的要求 | 第39-47页 |
| ·不同电源模式的定义 | 第39-42页 |
| ·不同电源模式下微弧氧化的对比 | 第42-47页 |
| ·本章总结 | 第47-48页 |
| 第4章 镁合金微弧氧化对负载波形及参数的要求 | 第48-58页 |
| ·微弧氧化对电源波形的要求 | 第48-49页 |
| ·燃弧时间和冷却时间的定义 | 第48-49页 |
| ·负载特性 | 第49页 |
| ·镁合金微弧氧化对电压的要求 | 第49-53页 |
| ·氧化时间与电压的关系 | 第50页 |
| ·膜层厚度与电压的关系 | 第50-51页 |
| ·不同电压下微弧氧化膜层的表面形貌 | 第51-52页 |
| ·膜层成分分析 | 第52-53页 |
| ·冷却时间对微弧氧化的影响 | 第53-57页 |
| ·冷却时间对起弧电压的影响 | 第53-54页 |
| ·冷却时间对成膜速率的影响 | 第54-55页 |
| ·冷却时间对腐蚀速率的影响 | 第55-56页 |
| ·冷却时间对膜层表面形貌的影响 | 第56页 |
| ·冷却时间对孔隙率的影响 | 第56-57页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| 第5章 负载波形及参数对微弧氧化膜层的影响 | 第58-63页 |
| ·充分放电膜厚和非充分放电膜厚的对比 | 第58-60页 |
| ·充分放电和非充分放电膜层生长速度 | 第58-59页 |
| ·充分放电和非充分放电膜厚的形貌 | 第59-60页 |
| ·影响充分放电条件下最大膜厚的因素 | 第60-62页 |
| ·电源模式对最大膜厚的影响 | 第60页 |
| ·频率和占空比对充分放电最大膜厚的影响 | 第60-61页 |
| ·频率和占空比对充分放电最大膜层形貌的影响 | 第61-62页 |
| ·总结 | 第62-63页 |
| 总结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第68页 |
