| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·研究背景 | 第8页 |
| ·磁性薄膜制备方法简介 | 第8-11页 |
| ·化学镀法 | 第9页 |
| ·电镀法 | 第9-10页 |
| ·物理气相沉积 | 第10页 |
| ·本课题选择磁性薄膜制备方法 | 第10-11页 |
| ·化学镀制备薄膜的机理 | 第11-15页 |
| ·化学镀的发展史 | 第11页 |
| ·化学镀层的生长机理 | 第11-13页 |
| ·化学镀液中各组分介绍 | 第13页 |
| ·硅衬底上化学镀膜工艺简介 | 第13-14页 |
| ·化学镀多元磁性合金薄膜 | 第14-15页 |
| 第二章 纳米晶软磁材料理论基础与测试技术原理 | 第15-25页 |
| ·软磁材料理论基础 | 第15-19页 |
| ·软磁材料的介绍 | 第15页 |
| ·软磁材料的磁滞回线的特点 | 第15-16页 |
| ·动态磁化机制 | 第16-18页 |
| ·软磁材料的磁各向异性 | 第18-19页 |
| ·测试技术原理 | 第19-25页 |
| ·X射线衍射(XRD)仪测量薄膜的结构 | 第19-20页 |
| ·振动样品磁强计(VSM)测样品静态磁性能 | 第20-21页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测样品厚度和样品成分 | 第21-22页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测样品的表面形貌 | 第22页 |
| ·电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)测样品成分 | 第22-23页 |
| ·矢量网络分析仪(VAN)测样品高频磁性 | 第23-25页 |
| 第三章 样品的制备与磁性测试 | 第25-44页 |
| ·硅衬底上化学镀Ni-P薄膜的制备及软磁性能 | 第25-32页 |
| ·实验原理 | 第25页 |
| ·薄膜的制备 | 第25-28页 |
| ·实验数据分析与结果讨论 | 第28-32页 |
| ·硅衬底上化学镀Ni-Co-P薄膜的制备及性能的测试 | 第32-37页 |
| ·实验原理与薄膜制备 | 第32-33页 |
| ·金属盐浓度对镀层的性能影响 | 第33-37页 |
| ·硅衬底上化学镀Ni-Co-Fe-P薄膜的制备及性能的测试 | 第37-42页 |
| ·化学镀Fe的实验原理与薄膜制备 | 第37-39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第四章 快速磁场热处理对化学镀Ni-P样品性能的影响 | 第44-51页 |
| ·350℃下不同的热处理时间对薄膜结构和磁性能的影响 | 第44-46页 |
| ·热处理时间对样品晶体结构的影响 | 第44-45页 |
| ·热处理时间对薄膜磁性能的影响 | 第45-46页 |
| ·不同热处理温度对薄膜结构和磁性能的影响 | 第46-47页 |
| ·热处理温度对薄膜结构的影响 | 第46页 |
| ·热处理温度对薄膜磁性能的影响 | 第46-47页 |
| ·快速磁场热处理对薄膜结构和磁性能的影响 | 第47-49页 |
| ·快速磁场热处理对薄膜结构的影响 | 第47-48页 |
| ·快速磁场热处理对薄膜磁性能的影响 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-51页 |
| 第五章 激光处理对化学镀Ni-P、Ni-Co-P薄膜样品的磁性能影响 | 第51-58页 |
| ·对化学镀Ni-P薄膜激光处理后的结果 | 第51-52页 |
| ·对化学镀Ni-Co-P薄膜激光处理后的结果 | 第52-57页 |
| ·硅衬底刻线后化学镀N2C4 | 第52-54页 |
| ·化学镀N2C4后激光刻线 | 第54-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 在学期间的研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
