| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 超导体的简介 | 第10-12页 |
| 1.1.1 超导体的发展史 | 第10-11页 |
| 1.1.2 超导体的性质及应用 | 第11-12页 |
| 1.2 YBCO超导带材的简介 | 第12-17页 |
| 1.2.1 YBCO的结构性质 | 第12-14页 |
| 1.2.2 YBCO带材的结构及制备技术 | 第14-17页 |
| 1.3 论文研究意义及研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 实验原理及表征方法 | 第19-29页 |
| 2.1 MOCVD（金属有机源化学气相沉积）技术及系统简介 | 第19-22页 |
| 2.1.1 MOCVD技术 | 第19-20页 |
| 2.1.2 自搭建MOCVD系统简介 | 第20-22页 |
| 2.2 MOCVD法制备YBCO薄膜流程 | 第22-23页 |
| 2.3 金属有机源的性质 | 第23-24页 |
| 2.4 薄膜表征方法 | 第24-29页 |
| 2.4.1 X射线衍射 | 第24-25页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜及能谱仪 | 第25-26页 |
| 2.4.3 YBCO临界电流密度（Jc）测试 | 第26页 |
| 2.4.4 利用台阶仪测薄膜厚度 | 第26页 |
| 2.4.5 利用物理性质测量系统(PPMS) 测试磁性能 | 第26-29页 |
| 第三章 YBCO薄膜超导层的MOCVD工艺研究 | 第29-55页 |
| 3.1 加热温度对YBCO薄膜生长的影响 | 第29-35页 |
| 3.1.1 衬底基带直接通电加热的原理 | 第29-32页 |
| 3.1.2 加热温度对YBCO晶体结构的影响 | 第32-33页 |
| 3.1.3 加热温度对YBCO表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| 3.1.4 加热温度对YBCO临界电流密度的影响 | 第34-35页 |
| 3.2 膜厚对YBCO超导薄膜生长的影响 | 第35-41页 |
| 3.2.1 膜厚对YBCO薄膜晶体结构的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.2 膜厚对YBCO超导表面形貌的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.3 膜厚对YBCO临界电流密度的影响 | 第39-41页 |
| 3.3 金属有机源成分配比对YBCO薄膜生长的影响 | 第41-54页 |
| 3.3.1 Y源比例对YBCO薄膜生长的影响研究 | 第41-45页 |
| 3.3.2 Ba源比例对YBCO薄膜生长的影响研究 | 第45-49页 |
| 3.3.3 Cu源含量对YBCO薄膜生长的影响研究 | 第49-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 YBCO的磁通钉扎效应研究 | 第55-67页 |
| 4.1 磁通钉扎效应 | 第55-56页 |
| 4.2 Gd掺杂对YBCO超导薄膜的磁通钉扎 | 第56-61页 |
| 4.2.1 Gd掺杂对YBCO薄膜晶体结构的影响 | 第57-59页 |
| 4.2.2 Gd掺杂对YBCO薄膜表面形貌的影响 | 第59-60页 |
| 4.2.3 Gd掺杂对YBCO薄膜临界电流密度的影响 | 第60-61页 |
| 4.3 Zr掺杂对YBCO超导薄膜的钉扎效应研究 | 第61-66页 |
| 4.3.1 Zr掺杂对YBCO超导薄膜晶体结构的影响 | 第61-64页 |
| 4.3.2 Zr掺杂对YBCO超导薄膜表面形貌的影响 | 第64页 |
| 4.3.3 Zr掺杂对YBCO超导薄膜临界电流密度的影响 | 第64-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 全文总结 | 第67-68页 |
| 5.2 对未来工作的展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第74-75页 |
