| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·薄膜材料的概述 | 第8-11页 |
| ·超导类薄膜 | 第8页 |
| ·磁性薄膜 | 第8-9页 |
| ·透明导电薄膜 | 第9-10页 |
| ·缓冲层薄膜 | 第10-11页 |
| ·MgO的性质及应用 | 第11-14页 |
| ·MgO的结构特征 | 第11-12页 |
| ·MgO薄膜的用途 | 第12-14页 |
| ·本文研究意义及主要内容 | 第14-15页 |
| 第二章 MgO薄膜的制备方法及其表征手段 | 第15-30页 |
| ·MgO薄膜的制备方法 | 第15-22页 |
| ·电子束蒸发（Electron-beam evaporation） | 第15-17页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第17-18页 |
| ·分子束外延（MBE） | 第18-19页 |
| ·金属有机物化合物化学气相沉淀（MOCVD） | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶法（Sol-gel） | 第19-21页 |
| ·磁控溅射技术（Magnetron sputtering） | 第21-22页 |
| ·MgO薄膜的表征方法 | 第22-29页 |
| ·X射线衍射（XRD） | 第23-25页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第25-27页 |
| ·紫外-可见光分光光度计 | 第27-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 磁控溅射法制备MgO薄膜 | 第30-40页 |
| ·溅射镀膜设备简介 | 第30-31页 |
| ·工艺流程 | 第31-33页 |
| ·磁控溅射制备MgO薄膜工艺参数的研究 | 第33-38页 |
| ·实验方案 | 第33-34页 |
| ·衬底温度对MgO薄膜的影响 | 第34-35页 |
| ·衬底材料对MgO薄膜的影响 | 第35-37页 |
| ·溅射时间对MgO薄膜的影响 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 退火处理对MgO薄膜性能的影响 | 第40-51页 |
| ·MgO薄膜的退火处理 | 第40-42页 |
| ·退火处理设备简介 | 第40-41页 |
| ·实验过程 | 第41-42页 |
| ·退火处理对MgO薄膜晶相结构的影响 | 第42-44页 |
| ·退火处理对MgO薄膜应力的影响 | 第44-46页 |
| ·退火处理对MgO薄膜表面形貌的影响 | 第46-48页 |
| ·退火处理对MgO薄膜光学性能的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第56-57页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第57-58页 |
| 附录3 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |