ZLSi7Cu2Mg合金微弧氧化工艺的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| ·课题来源和选题依据 | 第9-10页 |
| ·其他表面处理技术 | 第10-11页 |
| ·阳极氧化技术 | 第10-11页 |
| ·化学镀 | 第11页 |
| ·电镀铬 | 第11页 |
| ·微弧氧化技术 | 第11-19页 |
| ·微弧氧化国内外研究现状 | 第12-13页 |
| ·微弧氧化技术的作用机理 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化技术特点 | 第14-16页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的形成过程 | 第16页 |
| ·微弧氧化技术的影响因素 | 第16-19页 |
| ·电解液组分对微弧氧化的影响 | 第17-18页 |
| ·电参数对微弧氧化的影响 | 第18页 |
| ·合金成分 | 第18-19页 |
| ·铝合金微弧氧化研究内容及路线 | 第19-21页 |
| 2 实验设备及方法 | 第21-32页 |
| ·实验材料及仪器 | 第21-22页 |
| ·试样制备 | 第22-23页 |
| ·实验装置 | 第23-24页 |
| ·微弧氧化电解液体系的选择 | 第24-25页 |
| ·实验步骤 | 第25-29页 |
| ·前处理 | 第26-27页 |
| ·溶液的配制 | 第27页 |
| ·微弧氧化过程 | 第27-29页 |
| ·后处理 | 第29页 |
| ·微弧氧化膜的检测 | 第29-32页 |
| ·微弧氧化膜厚度的检测 | 第29页 |
| ·微弧氧化膜致密度的观察 | 第29-30页 |
| ·膜层表面形貌的观察 | 第30-31页 |
| ·膜层主要元素及成分分析 | 第31-32页 |
| 3 恒压微弧氧化实验数据整理及分析 | 第32-51页 |
| ·恒压微弧氧化电源及其特点 | 第32-33页 |
| ·电解液成分与微弧氧化膜层的关系研究 | 第33-39页 |
| ·电解液的选取 | 第33-35页 |
| ·电解液正交实验方法 | 第35-36页 |
| ·电解液正交实验结果分析 | 第36-37页 |
| ·各电解液参数对于膜层厚度的影响 | 第37-39页 |
| ·压电参数与微弧氧化膜层的关系研究 | 第39-42页 |
| ·恒压电参数正交试验方法 | 第39-40页 |
| ·电参数正交实验结果及分析 | 第40-41页 |
| ·各电参数对于膜层厚度的影响 | 第41-42页 |
| ·微弧氧化膜层表面形貌的分析 | 第42-43页 |
| ·微弧氧化膜层的物相分析 | 第43-44页 |
| ·微弧氧化膜与温度的关系 | 第44-45页 |
| ·恒压最终工艺的研究 | 第45-48页 |
| ·恒压源最终工艺参数的选择 | 第45页 |
| ·试样厚度的变化 | 第45-46页 |
| ·恒压源最终工艺形貌分析 | 第46-48页 |
| ·原有工艺的基础上加入ZrO2 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 4 恒流微弧氧化实验数据整理及分析 | 第51-63页 |
| ·恒流微弧氧化电源及其特点 | 第51-52页 |
| ·恒流微弧氧化正交试验及其分析 | 第52-59页 |
| ·微弧氧化试样的表面形貌观察 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 5 恒流源微弧氧化与恒压源微弧氧化的对比 | 第63-66页 |
| ·成膜速度的对比 | 第63页 |
| ·膜层形貌的对比 | 第63-65页 |
| ·电源控制的对比 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
