| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 1 引言 | 第14-16页 |
| 2 文献综述 | 第16-34页 |
| ·面向等离子体材料概述 | 第16-20页 |
| ·等离子体与材料表面相互作用 | 第17-18页 |
| ·面向等离子体材料的性能要求 | 第18-19页 |
| ·面向等离子体材料的选择 | 第19-20页 |
| ·金属钨概述 | 第20-22页 |
| ·钨的物理性质 | 第20-21页 |
| ·钨的化学性质 | 第21-22页 |
| ·钨的应用 | 第22页 |
| ·面向等离子体钨涂层的制备技术 | 第22-27页 |
| ·物理气相沉积 | 第23-24页 |
| ·化学气相沉积 | 第24页 |
| ·热喷涂 | 第24-27页 |
| ·熔盐电沉积钨涂层技术及进展 | 第27-32页 |
| ·卤化物熔盐体系 | 第28页 |
| ·卤-氧混合物熔盐体系 | 第28-29页 |
| ·氧化物熔盐体系 | 第29-31页 |
| ·熔盐电沉积的主要特点 | 第31-32页 |
| ·本文的研究内容和意义 | 第32-34页 |
| 3 Na_2WO_4-WO_3二元熔盐体系直流电沉积钨涂层 | 第34-50页 |
| ·实验材料和工艺 | 第34-38页 |
| ·实验材料和设备 | 第34-35页 |
| ·工艺流程 | 第35-38页 |
| ·涂层晶体结构和成分分析 | 第38-40页 |
| ·涂层表面形貌随电沉积时间的变化 | 第40-44页 |
| ·涂层厚度随电沉积时间的变化 | 第44-46页 |
| ·电流效率随电沉积时间的变化 | 第46-48页 |
| ·涂层硬度和氧含量随电沉积时间的变化 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 4 Na_2WO_4-WO_3二元熔盐体系脉冲电沉积钨涂层 | 第50-62页 |
| ·实验材料和工艺 | 第50-51页 |
| ·实验材料和设备 | 第50页 |
| ·工艺流程 | 第50-51页 |
| ·脉冲波形对涂层晶体结构的影响 | 第51-52页 |
| ·脉冲波形对钨涂层微观形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·脉冲波形对钨涂层力学性能的影响 | 第54-56页 |
| ·脉冲波形对钨涂层硬度的影响 | 第54-55页 |
| ·脉冲波形对钨涂层结合强度的影响 | 第55-56页 |
| ·脉冲波形对电流效率的影响 | 第56-57页 |
| ·长时间脉冲电沉积 | 第57-58页 |
| ·脉冲电沉积钨机理 | 第58-60页 |
| ·脉冲电沉积参数 | 第58-59页 |
| ·脉冲电沉积钨机理 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 5 Na_2WO_4-WO_3二元熔盐体系脉冲电沉积厚钨涂层 | 第62-86页 |
| ·实验材料和工艺 | 第62-63页 |
| ·实验材料和设备 | 第62页 |
| ·工艺流程 | 第62-63页 |
| ·厚涂层晶体结构与成分分析 | 第63-66页 |
| ·厚涂层微观形貌分析 | 第66-67页 |
| ·厚钨涂层性能分析 | 第67-76页 |
| ·涂层密度和孔隙率 | 第67-68页 |
| ·涂层表面残余应力 | 第68-71页 |
| ·涂层结合强度 | 第71-74页 |
| ·涂层热导率 | 第74-76页 |
| ·EAST辐照实验 | 第76-80页 |
| ·时效热处理对钨涂层性能的影响 | 第80-85页 |
| ·晶体结构 | 第81-82页 |
| ·微观形貌 | 第82-83页 |
| ·表面残余应力 | 第83-84页 |
| ·结合强度 | 第84页 |
| ·热导率 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 6 Na_2WO_4-WO_3-NaPO_3三元熔盐体系直流电沉积钨涂层 | 第86-100页 |
| ·实验材料和工艺 | 第86-87页 |
| ·实验材料和设备 | 第86页 |
| ·工艺流程 | 第86-87页 |
| ·Na2WO_4-WO_3-NaPO_3真流电沉积钨涂层 | 第87-89页 |
| ·晶体结构 | 第87-88页 |
| ·表面形貌 | 第88-89页 |
| ·电流密度对钨涂层的影响 | 第89-94页 |
| ·电流密度对涂层晶体结构的影响 | 第90页 |
| ·电流密度对涂层微观形貌的影响 | 第90-93页 |
| ·电流密度对电流效率的影响 | 第93-94页 |
| ·电沉积时间对钨涂层的影响 | 第94-99页 |
| ·涂层晶体结构随电沉积时间的变化 | 第95-96页 |
| ·涂层微观形貌随电沉积时间的变化 | 第96-97页 |
| ·电流效率随电沉积时间的变化 | 第97-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 7 Na_2WO_4-WO_3-NaPO_3三元熔盐体系脉冲电沉积钨涂层 | 第100-117页 |
| ·实验材料和工艺 | 第100页 |
| ·实验材料和设备 | 第100页 |
| ·工艺流程 | 第100页 |
| ·涂层宏观形貌与成分分析 | 第100-103页 |
| ·NaPO_3添加量的影响 | 第103-106页 |
| ·NaPO_3添加量对涂层晶体结构的影响 | 第103-104页 |
| ·NaPO3添加量对涂层表面的影响 | 第104页 |
| ·NaPO_3添加量对电流效率的影响 | 第104-106页 |
| ·电沉积温度的影响 | 第106-109页 |
| ·电沉积温度对涂层晶体结构的影响 | 第106-107页 |
| ·电沉积温度对涂层表面形貌的影响 | 第107-108页 |
| ·电沉积温度对电流效率的影响 | 第108-109页 |
| ·脉冲电流参数的影响 | 第109-116页 |
| ·脉冲电流密度对涂层形貌的影响 | 第109-112页 |
| ·脉冲占空比对涂层表面形貌的影响 | 第112-114页 |
| ·脉冲周期对涂层表面形貌的影响 | 第114-116页 |
| ·本章小结 | 第116-117页 |
| 8 结论 | 第117-120页 |
| 参考文献 | 第120-131页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第131-136页 |
| 学位论文数据集 | 第136页 |
