大面积高质量中阶梯光栅厚铝膜特性和制备工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-24页 |
| ·铝膜的应用领域 | 第11-22页 |
| ·大面积厚铝膜制备技术的研究现状 | 第22-24页 |
| ·论文研究目的 | 第24页 |
| ·论文研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 薄膜生长理论 | 第26-38页 |
| ·薄膜生长理论模型 | 第26-34页 |
| ·晶粒形成理论模型 | 第26-33页 |
| ·薄膜表面粗糙结构的理论模型 | 第33-34页 |
| ·厚铝膜的生长理论模型 | 第34-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第3章 大面积铝膜厚度均匀性的研究 | 第38-46页 |
| ·薄膜膜厚的理论计算 | 第38-40页 |
| ·针对大面积厚铝膜的镀膜系统参数设计 | 第40-43页 |
| ·大面积铝膜厚度均匀性的实验控制 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第4章 关键参数对厚铝膜质量的影响 | 第46-60页 |
| ·沉积角度对厚铝膜生长的影响 | 第46-52页 |
| ·基底温度对厚铝膜生长的影响 | 第52-56页 |
| ·沉积速率对厚铝膜生长的影响 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第5章 厚铝膜制备工艺的研究 | 第60-70页 |
| ·铝膜厚度变化对铝膜质量的影响 | 第60-62页 |
| ·传统工艺制备的铝膜质量分析 | 第62-63页 |
| ·表面粗糙度及内部致密度 | 第62页 |
| ·膜硬度 | 第62-63页 |
| ·传统工艺对铝膜的限制 | 第63-64页 |
| ·厚铝膜的制备新工艺多步沉积方法的提出 | 第64-65页 |
| ·新工艺和传统工艺的对比分析 | 第65-66页 |
| ·多步沉积厚铝膜间隔层的分析 | 第66-67页 |
| ·小结 | 第67-70页 |
| 第6章 结论与展望 | 第70-72页 |
| ·结论 | 第70-71页 |
| ·研究展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-84页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第84-85页 |
| 指导教师及作者简介 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
