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磁控溅射法制备ZnO薄膜与Al掺杂ZnO(AZO)薄膜及其性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-16页
   ·TCO 薄膜简介第10页
   ·ZnO 的基本性质第10-12页
     ·ZnO 的晶体结构及本征物性第10-12页
     ·ZnO 的电学特性第12页
     ·ZnO 的光学特性第12页
   ·ZnO:Al 薄膜的基本性质第12-14页
     ·ZnO:Al 薄膜的结构第12-13页
     ·ZnO:Al 薄膜的研究现状及应用第13-14页
   ·本论文研究的主要目的及意义第14页
   ·本论文主要研究内容及创新点第14-16页
第二章 薄膜的制备与表征方法第16-27页
   ·薄膜的制备方法第16-19页
     ·真空蒸发沉积第16页
     ·化学气相沉积法第16-17页
     ·分子束外延法第17页
     ·溶胶-凝胶法第17页
     ·溅射法第17-18页
     ·制备方法优缺点比较第18-19页
   ·JGP-560 型双室磁控溅射沉积系统第19-23页
     ·概述第19-20页
     ·系统工作条件以及技术指标第20页
     ·工作气路系统第20-21页
     ·操作流程及注意事项第21-23页
   ·薄膜的表征方法第23-27页
     ·X 射线衍射(XRD)第23-24页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第24-25页
     ·光致发光谱(PL)第25页
     ·近红外/可见/紫外分光光度计第25-27页
第三章 退火处理对射频磁控溅射制备 ZnO 薄膜性能的影响第27-37页
   ·引言第27页
   ·ZnO 薄膜样品制备第27-29页
     ·基片的清洗第27-28页
     ·实验条件及制备流程第28-29页
   ·结果与讨论第29-35页
     ·X 射线衍射(XRD)分析第29-30页
     ·薄膜的 SEM 分析第30-31页
     ·退火前后薄膜成分分析第31-32页
     ·退火前后薄膜光致发光分析第32-34页
     ·退火前后薄膜薄膜透射谱分析第34-35页
   ·本章小结第35-37页
第四章 磁控溅射制备 Al 掺杂 ZnO 薄膜及其性能研究第37-49页
   ·引言第37页
   ·ZnO:Al 薄膜样品制备第37-38页
     ·基片的清洗第37页
     ·设计思路与实验条件第37-38页
   ·结果与讨论第38-47页
     ·AZO 薄膜成分分析第38-39页
     ·X 射线衍射(XRD)分析第39-42页
     ·薄膜的 SEM 分析第42-43页
     ·光致发光分析第43-45页
     ·透射谱分析第45-47页
   ·本章小结第47-49页
第五章 总结与展望第49-51页
参考文献第51-55页
致谢第55页

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