摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
·引言 | 第10-11页 |
·粗糙固体表面的基本理论 | 第11-14页 |
·固体表面的浸润性 | 第11-12页 |
·经典理论—Wenzel模型和Cassie-Baxter模型 | 第12-13页 |
·滚动角与接触角滞后 | 第13-14页 |
·超疏水膜的制备方法 | 第14-20页 |
·溶胶凝胶法 | 第14-15页 |
·相分离法 | 第15-16页 |
·电化学法 | 第16页 |
·刻蚀法 | 第16-17页 |
·自组装法 | 第17页 |
·模板法 | 第17-18页 |
·静电纺丝法 | 第18-20页 |
·超疏水涂膜的应用 | 第20-21页 |
·课题的研究思路与主要内容 | 第21-22页 |
第二章 纳米二氧化硅颗粒的合成 | 第22-36页 |
·实验机理 | 第22-23页 |
·实验仪器及实验试剂 | 第23页 |
·实验仪器 | 第23页 |
·实验试剂 | 第23页 |
·实验过程与表征方法 | 第23-25页 |
·二氧化硅颗粒的合成 | 第23-24页 |
·透射电镜测试 | 第24页 |
·DLS测试 | 第24-25页 |
·实验结果与讨论 | 第25-34页 |
·温度对二氧化硅粒径的影响 | 第25-26页 |
·无水乙醇对二氧化硅粒径的影响 | 第26-27页 |
·水对二氧化硅粒径的影响 | 第27-28页 |
·氨水对二氧化硅粒径的影响 | 第28-31页 |
·TEOS对二氧化硅粒径的影响 | 第31页 |
·粒径形貌与分散情况 | 第31-34页 |
·本章小结 | 第34-36页 |
第三章 硅烷偶联剂对纳米二氧化硅粒子的疏水化修饰 | 第36-52页 |
·实验机理 | 第36-37页 |
·实验仪器及实验试剂 | 第37-38页 |
·实验仪器 | 第37-38页 |
·实验试剂 | 第38页 |
·实验步骤及表征方法 | 第38-39页 |
·二氧化硅的疏水化修饰 | 第38页 |
·无机-有机杂化膜的制备 | 第38-39页 |
·接触角测试 | 第39页 |
·红外测试 | 第39页 |
·扫描电镜测试 | 第39页 |
·实验结果与分析 | 第39-50页 |
·正交实验法分析二氧化硅疏水改性的影响因素 | 第39-46页 |
·疏水角影响因素分析 | 第46-49页 |
·红外测试结果 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-52页 |
第四章 SiO_2/PVDF复合纤维膜纺丝条件的优化 | 第52-68页 |
·实验机理 | 第52页 |
·实验仪器及实验试剂 | 第52-54页 |
·实验仪器 | 第52-53页 |
·实验试剂 | 第53-54页 |
·实验步骤 | 第54页 |
·结果与讨论 | 第54-66页 |
·制备条件的优化 | 第54-60页 |
·无机有机配比的优化 | 第60-66页 |
·本章小结 | 第66-68页 |
结论 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-75页 |
致谢 | 第75页 |