| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·传感器概述 | 第9-13页 |
| ·传感器的定义及其分类 | 第9-10页 |
| ·传感器的基本特性 | 第10-12页 |
| ·传感器的发展趋势 | 第12-13页 |
| ·气敏传感器概述 | 第13-14页 |
| ·气敏传感器基本概念 | 第13页 |
| ·气敏传感器分类 | 第13-14页 |
| ·半导体金属氧化物气敏传感器概述 | 第14-16页 |
| ·半导体金属氧化物气敏传感器工作机理 | 第15页 |
| ·半导体金属氧化物气敏传感器存在问题及发展趋势 | 第15-16页 |
| ·纳米材料在气敏传感器中的应用 | 第16-19页 |
| ·纳米材料的定义、制备及分类 | 第16-17页 |
| ·纳米材料的特殊效应 | 第17-18页 |
| ·一维纳米金属氧化物材料在气敏传感器中的应用 | 第18-19页 |
| ·本课题研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 氧化钨气敏传感器 | 第21-27页 |
| ·氧化钨晶体结构及性质简介 | 第21-23页 |
| ·一维纳米氧化钨半导体气敏传感器 | 第23-24页 |
| ·氧化钨基气敏传感器的工作原理 | 第24-25页 |
| ·电阻式气敏传感器的主要性能指标 | 第25-27页 |
| 第三章 实验 | 第27-36页 |
| ·不同形貌氧化钨纳米结构的合成 | 第28-29页 |
| ·氧化钨纳米结构气敏元件的制备 | 第29-32页 |
| ·基片处理 | 第29-30页 |
| ·薄膜电极的制备 | 第30-31页 |
| ·纳米氧化钨浆料的制备 | 第31页 |
| ·纳米氧化钨浆料的涂覆和烧结 | 第31-32页 |
| ·氧化钨纳米线及气敏薄膜的热退火处理 | 第32页 |
| ·纳米氧化钨微观结构表征与气敏性能测试 | 第32-36页 |
| ·SEM 微观形貌分析 | 第33页 |
| ·XRD 晶体结构分析 | 第33页 |
| ·TEM 超微结构分析 | 第33-34页 |
| ·XPS 化学分析 | 第34页 |
| ·气敏传感器元件气敏性能测试 | 第34-36页 |
| 第四章 实验结果分析与讨论 | 第36-51页 |
| ·不同初始浓度条件下合成的纳米氧化钨的特性 | 第36-42页 |
| ·SEM 表征 | 第36-38页 |
| ·XRD 表征 | 第38-39页 |
| ·NO_2气敏性能 | 第39-42页 |
| ·不同溶剂条件下合成的纳米氧化钨的特性 | 第42-45页 |
| ·SEM 表征 | 第42-43页 |
| ·XRD 表征 | 第43-44页 |
| ·NO_2气敏性能 | 第44-45页 |
| ·不同反应时间条件下合成的纳米氧化钨的特性 | 第45-47页 |
| ·纳米氧化钨的表面形貌 | 第45-46页 |
| ·NO_2气敏性能 | 第46-47页 |
| ·W_(18)O_(49)纳米线气敏材料的工作温度特性 | 第47-49页 |
| ·WO_3纳米片气敏材料的工作温度特性 | 第49-51页 |
| 第五章 热退火对氧化钨纳米线气敏性能影响的研究 | 第51-63页 |
| ·热退火对一维氧化钨的微观结构的影响 | 第51-57页 |
| ·SEM 表征 | 第51-54页 |
| ·TEM 表征 | 第54-55页 |
| ·XRD 分析 | 第55-56页 |
| ·XPS 分析 | 第56-57页 |
| ·热退火纳米氧化钨的气敏性能 | 第57-63页 |
| ·灵敏度—工作温度曲线 | 第57-59页 |
| ·气体浓度—灵敏度曲线 | 第59-62页 |
| ·选择性 | 第62-63页 |
| 第六章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |