| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-14页 |
| 引言 | 第14-15页 |
| 1 文献综述 | 第15-29页 |
| ·半导体光催化技术研究简介 | 第15-20页 |
| ·半导体光催化技术 | 第15页 |
| ·半导体光催化基本原理 | 第15-17页 |
| ·半导体光催化应用 | 第17-19页 |
| ·半导体光催化种类 | 第19-20页 |
| ·BiVO_4光催化剂材料的研究 | 第20-27页 |
| ·BiVO_4光催化材料的发展历程 | 第20-21页 |
| ·BiVO_4的结构与性质 | 第21-23页 |
| ·BiVO_4的制备方法及光催化性能研究 | 第23-25页 |
| ·影响BiVO_4光催化的主要因素 | 第25-27页 |
| ·课题的立题依据及研究内容 | 第27-29页 |
| ·课题的建立 | 第27页 |
| ·内容的研究 | 第27-29页 |
| 2 实验 | 第29-32页 |
| ·试剂及仪器 | 第29-30页 |
| ·化学试剂 | 第29页 |
| ·仪器设备 | 第29-30页 |
| ·光催化剂的表征 | 第30-31页 |
| ·热重-差热分析(TG-DTA) | 第30页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第30-31页 |
| ·紫外-可见漫反射分析(UV-VIS) | 第31页 |
| ·傅立叶变换透射红外分析(FT-IR) | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31页 |
| ·产物的表征 | 第31-32页 |
| ·红外光谱分析(IR) | 第31页 |
| ·气质联用仪(GC-MS) | 第31-32页 |
| 3 单一BiVO_4的光催化性能研究 | 第32-41页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·催化剂的制备 | 第32-33页 |
| ·光催化还原二氧化碳实验 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-39页 |
| ·TG-DTA 分析 | 第34-35页 |
| ·FT-IR 分析 | 第35-36页 |
| ·XRD 分析 | 第36-38页 |
| ·SEM 分析 | 第38-39页 |
| ·光催化还原CO_2活性研究 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 金属La掺杂BiVO_4的光催化性能研究 | 第41-54页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·金属掺杂催化剂的制备 | 第41-42页 |
| ·光催化还原二氧化碳实验 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-45页 |
| ·XRD分析 | 第42-44页 |
| ·TG-DTA分析 | 第44-45页 |
| ·UV-Vis DRS分析 | 第45页 |
| ·中间产物的表征与分析 | 第45-49页 |
| ·液体紫外吸收光谱 | 第45-46页 |
| ·气质联用仪表征和分析(GC-MS) | 第46-49页 |
| ·光催化还原CO_2活性研究 | 第49-53页 |
| ·离子掺杂的影响 | 第49页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第49-50页 |
| ·催化剂用量的影响 | 第50-51页 |
| ·CO_2流量的影响 | 第51-52页 |
| ·反应时间的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 5 光催化二氧化碳和水的反应机理 | 第54-58页 |
| ·光催化还原CO_2反应机理研究 | 第54-55页 |
| ·BiVO_4催化剂光催化还原CO_2反应机理研究 | 第55-58页 |
| 6 总结 | 第58-59页 |
| ·结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 作者简介 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |