铝合金化学机械抛光工艺技术的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 插图索引 | 第10-11页 |
| 附表索引 | 第11-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-18页 |
| ·铝合金化学机械抛光研究背景及意义 | 第12-15页 |
| ·铝合金化学机械抛光研究背景 | 第12-13页 |
| ·铝合金化学机械抛光的研究意义 | 第13-15页 |
| ·化学机械抛光国内外研究现状 | 第15-17页 |
| ·课题来源及研究的主要内容 | 第17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第2章 铝合金化学机械抛光加工理论研究 | 第18-28页 |
| ·化学机械抛光工作原理 | 第19-20页 |
| ·化学机械抛光过程中铝的化学腐蚀特性 | 第20-21页 |
| ·化学机械抛光过程中材料的机械去除形式 | 第21-23页 |
| ·化学机械抛光技术的理论模型 | 第23-27页 |
| ·基于微接触磨削行为的接触模型 | 第24-25页 |
| ·基于流体动力学原理的模型 | 第25-26页 |
| ·基于接触力学与流体力学机理的模型 | 第26-27页 |
| ·基于抛光液化学作用机理的建模 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 铝合金粗抛工艺研究 | 第28-39页 |
| ·实验仪器与设备 | 第28-30页 |
| ·抛光试验台 | 第28-29页 |
| ·实验样品及检测仪器 | 第29-30页 |
| ·CMP化学作用对材料去除率的影响 | 第30-31页 |
| ·粗抛实验设计 | 第31-37页 |
| ·铝合金粗抛实验设计 | 第32-33页 |
| ·数据分析 | 第33-34页 |
| ·各因素水平对样品表面粗糙度的影响 | 第34-35页 |
| ·各个因素及其水平对材料去除率的影响 | 第35-37页 |
| ·最优组合及验证实验 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 铝合金精抛工艺参数的研究 | 第39-50页 |
| ·抛光耗材的选择 | 第39-41页 |
| ·抛光垫的选择 | 第39-40页 |
| ·抛光液的选取 | 第40-41页 |
| ·实验样品 | 第41页 |
| ·工艺参数对材料去除率的影响 | 第41-45页 |
| ·抛光压力对材料去除率的影响 | 第42-43页 |
| ·抛光转速对材料去除率的影响 | 第43-44页 |
| ·H_2O_2 含量对材料去除率的影响 | 第44-45页 |
| ·工艺参数对表面粗糙度的影响 | 第45-49页 |
| ·抛光压力对材料表面粗糙度的影响 | 第46-47页 |
| ·抛光盘转速对材料表面粗糙度的影响 | 第47-48页 |
| ·H_2O_2 含量对材料表面粗糙度的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 铝合金抛光过程温度的影响研究 | 第50-59页 |
| ·温度特性的影响分析 | 第50-52页 |
| ·抛光参数对抛光温度的影响分析 | 第52-55页 |
| ·抛光压力对抛光温度的影响 | 第52-53页 |
| ·抛光转速对抛光温度的影响 | 第53-54页 |
| ·环境温度对抛光温度的影响 | 第54-55页 |
| ·抛光温度对材料去除率的影响 | 第55页 |
| ·抛光温度对表面质量的影响分析 | 第55-58页 |
| ·温度对抛光耗材属性的影响 | 第55-56页 |
| ·温度对表面质量的影响 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 致谢 | 第64页 |