| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·光催化分解水的基本原理 | 第8-10页 |
| ·光催化分解水的影响因素 | 第10-12页 |
| ·半导体的晶型和结晶度 | 第10页 |
| ·半导体颗粒大小 | 第10-11页 |
| ·助催化剂 | 第11页 |
| ·牺牲试剂 | 第11-12页 |
| ·光催化水分解的研究进展 | 第12页 |
| ·可见光水分解制氢气或者氧气的研究进展 | 第12-16页 |
| ·高效稳定的新型光催化剂 | 第12页 |
| ·能带设计 | 第12-15页 |
| ·金属阳离子掺杂 | 第13-14页 |
| ·阴离子掺杂 | 第14-15页 |
| ·敏化作用 | 第15-16页 |
| ·染料光敏化 | 第15-16页 |
| ·半导体复合 | 第16页 |
| ·硫化镉在可见光催化水分解制氢研究中的应用 | 第16-18页 |
| ·硫化镉可见光催化剂的研究进展 | 第17页 |
| ·硫化镉可见光催化剂的合成现状 | 第17-18页 |
| ·本论文的选题依据和目的 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 NiS/CdS 复合光催化剂的制备及产氢活性研究 | 第22-35页 |
| ·前言 | 第22-23页 |
| ·实验部分 | 第23-24页 |
| ·NiS/CdS复合催化剂的制备 | 第23页 |
| ·催化剂的表征 | 第23-24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-31页 |
| ·XRD结果分析 | 第24-25页 |
| ·UV-vis-DRS结果分析 | 第25-26页 |
| ·形貌表征和分析 | 第26-28页 |
| ·光催化反应测试 | 第28-29页 |
| ·SPS结果分析 | 第29-30页 |
| ·陈化时间对反应活性的影响 | 第30-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-35页 |
| 第三章 牺牲试剂对NiS/CdS光催化产氢效率的影响 | 第35-37页 |
| ·前言 | 第35页 |
| ·实验部分 | 第35页 |
| ·NiS/CdS光催化产应及结果分析 | 第35-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 第四章 不同制备方法对NiS/CdS复合光催化剂产氢活性影响 | 第37-47页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·实验部分 | 第37-38页 |
| ·催化剂的制备及催化反应 | 第37-38页 |
| ·催化剂的表征 | 第38页 |
| ·催化剂表征 | 第38-39页 |
| ·XRD结果分析 | 第38-39页 |
| ·UV-vis-DRS结果分析 | 第39页 |
| ·NiS/CdS-N光催化分解水性能研究 | 第39-43页 |
| ·NiS/CdS-N 光催化分解水制氢 | 第39-41页 |
| ·异质结结构和NiS对NiS/CdS-N 光催化分解水制氢影响 | 第41-43页 |
| ·NiS/CdS-400 ℃光稳定性研究 | 第43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第49页 |
