| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·低维氧化铝纳米材料的研究进展 | 第10-14页 |
| ·低维氧化钼纳米材料的制备方法 | 第10-12页 |
| ·低维氧化钼纳米材料的性能及应用 | 第12-14页 |
| ·低维氧化钨纳米材料的研究进展 | 第14-22页 |
| ·低维氧化钨纳米材料的制备方法 | 第14-16页 |
| ·低维氧化钨纳米材料的性能 | 第16-19页 |
| ·低维氧化钨纳米材料的应用 | 第19-22页 |
| ·本文研究内容及其意义 | 第22-23页 |
| 第二章 合成工艺与表征手段 | 第23-29页 |
| ·前言 | 第23页 |
| ·实验原料及设备 | 第23-24页 |
| ·实验用料 | 第23-24页 |
| ·实验主要设备 | 第24页 |
| ·实验过程 | 第24-25页 |
| ·MoO_2微/纳米片的制备工艺 | 第24页 |
| ·W_(18)O_(49)微/纳米棒的制备工艺 | 第24-25页 |
| ·主要分析测试手段及目的 | 第25-29页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第25-26页 |
| ·X射线衍射分析 | 第26页 |
| ·能谱分析 | 第26页 |
| ·透射电子显微镜分析 | 第26页 |
| ·光学性能测试 | 第26-28页 |
| ·场发射性能测试 | 第28-29页 |
| 第三章 MoO_2微/纳米片的表征及生长机理研究 | 第29-36页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·MoO_2微/纳米片的形貌及结构表征 | 第29-33页 |
| ·MoO_2微/纳米片的生长机理探讨 | 第33-35页 |
| ·发生的化学反应 | 第33-34页 |
| ·MoO_2微/纳米结构的生长机理分析 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 氧化钨微/纳米棒的表征及生长机理研究 | 第36-47页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·氧化钨微/纳米棒阵列的表征 | 第36-39页 |
| ·实验参数对生长氧化钨微/纳米棒阵列的影响 | 第39-44页 |
| ·生长温度的影响 | 第39-41页 |
| ·钨片位置的影响 | 第41-43页 |
| ·保温时间的影响 | 第43-44页 |
| ·水浴的影响 | 第44页 |
| ·氧化钨微/纳米棒的生长机理 | 第44-46页 |
| ·生长机制的确定 | 第44-45页 |
| ·氧化钨微/纳米棒的形成过程 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 难熔金属Mo、W氧化物微/纳米结构的性能表征 | 第47-58页 |
| ·MoO_2微/纳米片的光学性能表征 | 第47-51页 |
| ·MoO_2微/纳米片的吸收光谱 | 第48-50页 |
| ·MoO_2微/纳米片的光致发光光谱 | 第50-51页 |
| ·氧化钨微/纳米棒的场发射性能表征 | 第51-56页 |
| ·场电子发射的理论基础 | 第51-53页 |
| ·场发射性能的评价标准 | 第53-54页 |
| ·氧化钨微/纳米棒阵列的场发射性能 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第六章 主要结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第71页 |