磁控溅射WS2、WS2-C固体润滑薄膜的制备与性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·固体润滑材料 | 第9-14页 |
| ·固体润滑机理 | 第10-11页 |
| ·固体润滑材料的分类 | 第11-12页 |
| ·固体润滑材料的特性 | 第12-13页 |
| ·固体润滑材料的应用 | 第13页 |
| ·固体润滑材料的制备方法 | 第13-14页 |
| ·磁控溅射镀膜技术 | 第14-17页 |
| ·平衡磁控溅射技术 | 第14-15页 |
| ·非平衡磁控溅射技术 | 第15-16页 |
| ·反应磁控溅射技术 | 第16页 |
| ·中频磁控溅射技术 | 第16-17页 |
| ·孪生靶中频磁控溅射技术 | 第17页 |
| ·二硫化钨薄膜 | 第17-22页 |
| ·硫化钨薄膜的结构及性能 | 第18-19页 |
| ·硫化钨薄膜的制备方法 | 第19-20页 |
| ·二硫化钨薄膜的研究进展 | 第20-22页 |
| ·本课题的研究意义及研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方法 | 第24-32页 |
| ·基体材料 | 第24-25页 |
| ·工艺路线 | 第25页 |
| ·镀膜设备 | 第25-26页 |
| ·镀膜方案 | 第26-28页 |
| ·基体的清洗 | 第26-27页 |
| ·过渡层的沉积 | 第27-28页 |
| ·WS_2及WS_2-C薄膜的制备 | 第28页 |
| ·薄膜的结构与性能表征 | 第28-32页 |
| ·扫描电镜分析 | 第28页 |
| ·Raman光谱分析 | 第28页 |
| ·X射线衍射分析 | 第28-29页 |
| ·金相显微分析 | 第29页 |
| ·显微硬度测试 | 第29页 |
| ·附着性能测试 | 第29-30页 |
| ·摩擦磨损试验 | 第30-32页 |
| 第三章 纯WS_2薄膜的制备及性能 | 第32-50页 |
| ·纯WS_2薄膜的制备工艺 | 第32-33页 |
| ·WS_2薄膜的微观结构及形貌分析 | 第33-38页 |
| ·WS_2薄膜的表面形貌 | 第33页 |
| ·WS_2薄膜的EDS分析 | 第33-34页 |
| ·工作气压对WS_2薄膜的S/W比及截面形貌影响 | 第34-35页 |
| ·沉积温度对WS_2薄膜的S/W比及截面形貌影响 | 第35-36页 |
| ·WS_2薄膜的物相结构分析 | 第36-37页 |
| ·WS_2薄膜的Raman光谱分析 | 第37-38页 |
| ·纯WS_2薄膜的力学性能 | 第38-43页 |
| ·沉积温度对WS_2薄膜硬度的影响 | 第38-42页 |
| ·沉积温度对WS_2薄膜附着力的影响 | 第42-43页 |
| ·纯WS_2薄膜的摩擦学性能 | 第43-45页 |
| ·离子辅助沉积对WS2薄膜的影响 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 WS_2-C复合薄膜的制备及性能 | 第50-64页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的制备工艺 | 第50-52页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的微观组织结构及成分 | 第52-55页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的成分分析 | 第52页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的微观形貌分析 | 第52-54页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的物相分析 | 第54-55页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的力学性能 | 第55-57页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的显微硬度 | 第55-57页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的附着性能 | 第57页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的摩擦学性能 | 第57-63页 |
| ·碳含量对WS_2-C复合薄膜摩擦系数的影响 | 第58-59页 |
| ·载荷对WS_2-C复合薄膜摩擦系数的影响 | 第59-61页 |
| ·WS_2-C复合薄膜的耐磨寿命 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第72页 |
