摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-14页 |
第一章 绪论 | 第14-54页 |
·前言 | 第14-15页 |
·半导体光催化还原CO_2的基本原理 | 第15-18页 |
·半导体光催化还原CO_2的主要途径 | 第18-27页 |
·光催化还原CO_2悬浮体系 | 第18-19页 |
·光催化还原CO_2气相体系 | 第19-27页 |
·半导体光催化还原CO_2反应的影响因素 | 第27-30页 |
·半导体的性能、结构与表面特性的影响 | 第27-29页 |
·催化反应条件的影响 | 第29-30页 |
·半导体光催化还原CO_2的研究进展 | 第30-45页 |
·紫外光响应的半导体及其改性材料 | 第30-41页 |
·TiO_2及其微结构和晶面调控 | 第30-34页 |
·TiO_2基改性材料 | 第34-39页 |
·其他紫外光响应半导体 | 第39-41页 |
·可见光响应半导体材料 | 第41-45页 |
·二元和三元可见光响应氧化物半导体材料 | 第41-43页 |
·碳基可见光响应半导体材料 | 第43-44页 |
·其他可见光型半导体 | 第44-45页 |
·本论文的立题思想和主要研究内容 | 第45-47页 |
参考文献 | 第47-54页 |
第二章 单斜相BiVO_4微米片的可见光催化还原CO_2的反应活性及其产物选择性研究 | 第54-74页 |
·实验部分 | 第55-63页 |
·试剂和仪器 | 第55页 |
·BiVO_4样品的制备 | 第55-57页 |
·样品的表征 | 第57页 |
·光催化还原CO_2实验 | 第57-58页 |
·光催化还原CO_2实验产物的分析 | 第58-63页 |
·色谱法测定光催化还原CO_2的气相和液相产物 | 第58-60页 |
·标准曲线的绘制 | 第60-63页 |
·结果与讨论 | 第63-70页 |
·单斜相BiVO_4微米片的光催化还原CO_2性能分析 | 第63-64页 |
·催化剂用量对BiVO_4微米片悬浮体系的CH_3OH产量的影响 | 第64-65页 |
·NaOH浓度对BiVO_4微米片悬浮体的CH_3OH产量的影响 | 第65-66页 |
·单斜相BiVO_4微米片光催化还原CO_2的效率和稳定性研究 | 第66-69页 |
·单斜相BiVO_4微米片光催化还原CO_2的反应机理初步探讨 | 第69-70页 |
·本章小结 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |
第三章 不同微结构g-C_3N_4的合成及其可见光催化还原CO_2的性能研究 | 第74-94页 |
·实验部分 | 第75-77页 |
·试剂和仪器 | 第75页 |
·g-C_3N_4样品的制备 | 第75页 |
·材料表征 | 第75-76页 |
·光催化还原CO_2实验 | 第76页 |
·吸附HCO_3~-的试验和光电流谱测定 | 第76-77页 |
·结果与讨论 | 第77-90页 |
·产物的物相分析 | 第77页 |
·产物的微结构分析 | 第77-78页 |
·产物的BET表面积和孔径分布分析 | 第78-79页 |
·产物的XPS谱分析 | 第79-80页 |
·产物的紫外-可见漫反射吸收光谱分析 | 第80-81页 |
·产物的可见光催化还原CO_2的性能分析 | 第81-84页 |
·g-C_3N_4可见光催化还原CO_2的反应机理探讨 | 第84-88页 |
·g-C_3N_4可见光催化还原CO_2的产物选择性生成机理的初探 | 第88-90页 |
·本章小结 | 第90-91页 |
参考文献 | 第91-94页 |
第四章 具有不同暴露晶面的锐钛矿纳米TiO_2的合成及其光催化还原CO_2性能研究 | 第94-112页 |
·实验部分 | 第95-97页 |
·试剂和仪器 | 第95页 |
·样品的制备 | 第95-96页 |
·样品的表征 | 第96页 |
·光催化还原CO_2测试实验 | 第96-97页 |
·结果与讨论 | 第97-107页 |
·产物的晶相分析 | 第97页 |
·产物的微结构分析 | 第97-98页 |
·产物的XPS谱及BET分析 | 第98-99页 |
·产物的光催化还原CO_2性能分析 | 第99-101页 |
·Pt负载逆转TiO_2-010和TiO_2-001光催化活性的机理分析 | 第101-107页 |
·本章小结 | 第107-108页 |
参考文献 | 第108-112页 |
总结与展望 | 第112-115页 |
博士期间主要科研成果 | 第115-117页 |
致谢 | 第117页 |