硅基太阳能电池减反射层的制备
| 论文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1. 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·碱性刻蚀 | 第11-14页 |
| ·机理 | 第11-13页 |
| ·溶液 | 第13-14页 |
| ·酸性刻蚀 | 第14-15页 |
| ·机理 | 第14页 |
| ·溶液 | 第14-15页 |
| ·贵金属粒子辅助刻蚀 | 第15-17页 |
| ·一步刻蚀法 | 第15-16页 |
| ·两步刻蚀法 | 第16-17页 |
| ·碱性刻蚀与贵金属粒子辅助刻蚀结合法 | 第17-19页 |
| ·贵金属辅助刻蚀与掩膜法结合法 | 第19-21页 |
| ·纳米球模板 | 第19-20页 |
| ·AAO 模板 | 第20-21页 |
| ·课题的研究目的及意义 | 第21-23页 |
| ·实验内容 | 第22页 |
| ·实验目的与意义 | 第22-23页 |
| 2. 实验方法 | 第23-29页 |
| ·硅片预处理 | 第23页 |
| ·沉积银粒子工艺 | 第23-25页 |
| ·化学镀银 | 第23页 |
| ·磁控溅射镀银 | 第23-25页 |
| ·沉积硅薄膜工艺 | 第25页 |
| ·化学刻蚀工艺 | 第25页 |
| ·形貌表征方法 | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜 | 第26页 |
| ·反射率的表征方法 | 第26-29页 |
| 3 化学镀银粒子辅助刻蚀 | 第29-47页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·AgNO_3浓度对银粒子形貌的影响 | 第29-32页 |
| ·银粒子密度对刻蚀形貌的影响 | 第32-35页 |
| ·刻蚀液浓度对形貌的影响 | 第35-44页 |
| ·H_2O_2浓度对形貌的影响 | 第35-40页 |
| ·HF 浓度对形貌的影响 | 第40-43页 |
| ·ρ值的影响 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-47页 |
| 4 磁控溅射镀银辅助刻蚀 | 第47-55页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·磁控溅射镀银 | 第47-48页 |
| ·银粒子厚度对刻蚀形貌的影响 | 第48-51页 |
| ·刻蚀时间对刻蚀形貌的影响 | 第51-53页 |
| ·磁控溅射镀银辅助刻蚀硅反射率 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 5 硅薄膜银粒子辅助刻蚀 | 第55-65页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·硅薄膜形貌 | 第55-57页 |
| ·单晶硅与硅薄膜刻蚀形貌比较 | 第57-58页 |
| ·刻蚀时间对刻蚀形貌和反射率的影响 | 第58-61页 |
| ·刻蚀浓度对刻蚀形貌和反射率的影响 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 在学期间研究成果 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
