SMR-FBAR压电堆用Mo及AlN薄膜材料的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| ·课题背景及研究意义 | 第11-13页 |
| ·FBAR 的研究现状 | 第13-15页 |
| ·压电薄膜材料的研究现状 | 第15-18页 |
| ·压电材料的选择 | 第15-16页 |
| ·AlN 的晶体结构 | 第16-17页 |
| ·AlN 薄膜的研究现状 | 第17-18页 |
| ·电极薄膜材料的研究现状 | 第18-20页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 Mo 及 AlN 薄膜的制备及试验方法 | 第22-31页 |
| ·Mo 及 AlN 薄膜的制备系统及原理 | 第22-23页 |
| ·Mo及 AlN 薄膜的制备 | 第23-27页 |
| ·Mo 薄膜的制备 | 第24-25页 |
| ·AlN 薄膜的制备 | 第25-27页 |
| ·Mo 及 AlN 薄膜的结构及性能表征方法 | 第27-30页 |
| ·掠入射 X 射线衍射(GIXRD)分析 | 第27页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第27-28页 |
| ·X 射线反射(XRR)分析 | 第28页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第28页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第29页 |
| ·纳米压痕测量 | 第29页 |
| ·薄膜电阻的测量 | 第29页 |
| ·薄膜压电性能的测量 | 第29页 |
| ·薄膜介电性能的测量 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 Mo 电极薄膜的结构及性能研究 | 第31-46页 |
| ·Mo 薄膜的表面形貌分析 | 第31-35页 |
| ·SEM 分析 | 第31-32页 |
| ·AFM 分析 | 第32-35页 |
| ·Mo 薄膜的 GIXRD 分析 | 第35-38页 |
| ·Mo 薄膜的厚度分析 | 第38-39页 |
| ·Mo 薄膜的电学性能分析 | 第39-40页 |
| ·Mo 薄膜的声阻抗分析 | 第40-45页 |
| ·Mo 薄膜的纳米压痕杨氏模量分析 | 第40-42页 |
| ·Mo 薄膜的密度分析 | 第42-44页 |
| ·Mo 薄膜的声阻抗分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 AlN 薄膜的结构及性能研究 | 第46-72页 |
| ·AlN 薄膜的 SEM 分析 | 第46-48页 |
| ·溅射功率对 AlN 薄膜的表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| ·退火条件对 AlN 薄膜的表面形貌的影响 | 第47-48页 |
| ·AlN 薄膜的 AFM 分析 | 第48-53页 |
| ·溅射功率对 AlN 薄膜的表面粗糙度的影响 | 第49-51页 |
| ·靶基距对 AlN 薄膜的表面粗糙度的影响 | 第51-52页 |
| ·退火条件对 AlN 薄膜的表面粗糙度的影响 | 第52-53页 |
| ·AlN 薄膜的结构分析 | 第53-57页 |
| ·溅射功率对 AlN 薄膜结构的影响 | 第53-54页 |
| ·退火对 AlN 薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
| ·衬底对 AlN 薄膜结构的影响 | 第56-57页 |
| ·AlN 薄膜的组成分析 | 第57-60页 |
| ·AlN 薄膜的沉积速率分析 | 第60-64页 |
| ·溅射功率对薄膜沉积速率的影响 | 第62页 |
| ·N_2浓度对薄膜沉积速率的影响 | 第62-64页 |
| ·衬底温度对薄膜沉积速率的影响 | 第64页 |
| ·AlN 薄膜的纳米压痕分析 | 第64-66页 |
| ·AlN 薄膜的电学性能分析 | 第66-71页 |
| ·AlN 薄膜的压电性能分析 | 第66-68页 |
| ·AlN 薄膜的介电性能分析 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第82-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 个人简历 | 第85页 |
