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掺硼金刚石薄膜的制备及电化学性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 综述第10-19页
   ·金刚石材料简介第10-12页
   ·硼掺杂金刚石薄膜第12-14页
   ·CVD 掺硼金刚石膜制备方法第14-17页
   ·BDD 检测多巴胺第17-19页
第二章 HFCVD 法制备金刚石薄膜第19-24页
   ·基底的预处理第19页
   ·灯丝的选择与碳化第19-20页
   ·实验条件的选择第20-23页
   ·本章小结第23-24页
第三章 直流电弧等离子喷射制备金刚石薄膜第24-32页
   ·基底的选择第25页
   ·掺硼金刚石薄膜的制备第25-27页
   ·硼掺杂金刚石膜结构性能分析第27-30页
   ·本章小结第30-32页
第四章 BDD 电极的电化学特性研究第32-37页
   ·实验过程第32-33页
   ·电化学窗口和背景电流第33-34页
   ·可逆性第34-36页
   ·本章小结第36-37页
第五章 BDD 电极检测多巴胺第37-44页
   ·修饰电极的制备第37-39页
   ·L-半胱氨酸聚合电极对多巴胺的催化作用第39-40页
   ·扫描速度和 PH 的选择第40-41页
   ·不同浓度的多巴胺在 BDD 电极上的电化学行为第41-42页
   ·AA 的干扰检测第42页
   ·样品分析第42-43页
   ·本章小结第43-44页
第六章 结果与讨论第44-46页
   ·实验结论第44-45页
   ·尚需解决的问题第45-46页
参考文献第46-50页
发表论文和科研情况说明第50-51页
致谢第51-52页

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