YBCO涂层导体长带与厚膜制备技术及钉扎机制研究
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
1 绪论 | 第12-32页 |
·超导电性与材料发展简述 | 第12-14页 |
·高温超导材料YBCO的结构和特性 | 第14-17页 |
·YBCO晶体结构特征 | 第14-16页 |
·YBCO弱连接 | 第16-17页 |
·YBCO涂层导体研究科学背景及应用前景 | 第17-19页 |
·YBCO涂层导体的制备技术与前沿研究 | 第19-24页 |
·YBCO涂层导体结构 | 第19-20页 |
·YBCO膜的制备方法 | 第20-21页 |
·涂层导体的研究前沿 | 第21-24页 |
·论文研究的主要内容和目的意义 | 第24-26页 |
参考文献 | 第26-32页 |
2 动态真空镀膜实验装置的研发 | 第32-42页 |
·引言 | 第32-34页 |
·背景介绍 | 第32页 |
·实验装置设计思路 | 第32-34页 |
·关键部位具体实施方案 | 第34-40页 |
·基本构造 | 第34页 |
·加热器组件 | 第34-39页 |
·基带卷绕承载系统 | 第39-40页 |
·靶组件 | 第40页 |
·气路方式 | 第40页 |
·实验装置特点 | 第40-42页 |
3 实验方法和表征技术 | 第42-60页 |
·脉冲激光沉积技术 | 第42-44页 |
·脉冲激光沉积基本原理 | 第42页 |
·脉冲激光沉积YBCO的物理过程概述 | 第42-44页 |
·脉冲激光沉积YBCO的特点 | 第44页 |
·脉冲激光沉积涂层导体实验方法 | 第44-47页 |
·沉积系统和激光源 | 第44页 |
·金属基底和隔离层 | 第44-46页 |
·靶材与靶基距 | 第46页 |
·激光光路调节 | 第46-47页 |
·样品安装 | 第47页 |
·动态沉积和退火 | 第47页 |
·YBCO涂层导体的表征技术 | 第47-58页 |
·晶体结构表征:X射线衍射技术 | 第48-50页 |
·表面形貌表征:扫描电子显微镜 | 第50页 |
·厚度的表征:台阶测厚仪 | 第50-51页 |
·微观结构表征:拉曼光谱 | 第51页 |
·表面成分表征:X射线光电子能谱 | 第51-52页 |
·超导电性测量 | 第52-58页 |
参考文献 | 第58-60页 |
4 YBCO涂层导体长带制备技术 | 第60-100页 |
·引言 | 第60-61页 |
·PLD技术制备YBCO实验参数研究 | 第61-71页 |
·激光能量和氧压与羽辉形态的关联性 | 第61-63页 |
·激光能量和靶基距对YBCO超导电性的影响 | 第63-67页 |
·沉积温度对YBCO结构和超导电性的影响 | 第67-71页 |
·金属衬底上移动沉积YBCO带材 | 第71-84页 |
·脉冲激光重复频率对超导电性的影响 | 第72-74页 |
·基带移动速率对超导电性的影响 | 第74-76页 |
·YBCO膜表面形貌分析 | 第76-79页 |
·YBCO膜结构分析 | 第79-82页 |
·YBCO与隔离层的界面反应 | 第82-84页 |
·YBCO的临界转变温度曲线分析 | 第84页 |
·提高YBCO长带性能的技术研究 | 第84-97页 |
·YBCO靶面平整度的控制 | 第85-87页 |
·沉积温度和气压的控制 | 第87-88页 |
·多层工艺沉积YBCO | 第88-91页 |
·米级长带的结果和均匀性 | 第91-97页 |
·小结 | 第97-99页 |
参考文献 | 第99-100页 |
5 YBCO涂层导体厚膜与钉扎机制研究 | 第100-122页 |
·引言 | 第100页 |
·YBCO涂层导体厚膜研究 | 第100-111页 |
·YBCO厚膜的制备技术 | 第100-103页 |
·BaZrO_3掺杂YBCO的组分分析 | 第103-104页 |
·YBCO厚膜的超导电性 | 第104-105页 |
·YBCO厚膜的织构和表面形貌 | 第105-109页 |
·YBCO厚膜的微结构 | 第109-111页 |
·YBCO磁通钉扎机制研究 | 第111-118页 |
·临界电流密度随磁场的变化分析 | 第112-115页 |
·钉扎力随磁场的变化分析 | 第115页 |
·钉扎类型的拟合与分析 | 第115-118页 |
·小结 | 第118-119页 |
参考义献 | 第119-122页 |
6 结论 | 第122-126页 |
·主要研究结果 | 第122-124页 |
·主要创新点 | 第124页 |
·有待深入的工作 | 第124-126页 |
攻读博士学位期间的研究成果 | 第126-130页 |
致谢 | 第130页 |