具有凹状纵向磁场分布的真空灭弧室触头设计研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10-13页 |
| ·课题研究的背景 | 第10-11页 |
| ·真空断路器的发展历史 | 第11-13页 |
| ·本课题的研究内容及目标 | 第13-17页 |
| ·课题的意义 | 第13-14页 |
| ·课题的提出依据 | 第14-17页 |
| ·研究内容 | 第17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第二章 真空灭弧室的磁场控制技术 | 第18-30页 |
| ·真空电弧 | 第18-21页 |
| ·真空灭弧室的阴极与阳极现象 | 第18-19页 |
| ·真空电弧的燃烧 | 第19-20页 |
| ·真空电弧的形态 | 第20页 |
| ·弧后介质强度的恢复 | 第20-21页 |
| ·真空中的磁场控制技术 | 第21-24页 |
| ·真空灭弧室的横向磁场触头结构 | 第21-22页 |
| ·真空灭弧室的纵向磁场触头结构 | 第22-24页 |
| ·纵向磁场对电弧的控制技术 | 第24-29页 |
| ·纵向磁场与电弧形态 | 第24-25页 |
| ·纵向磁场对真空电弧的作用 | 第25-27页 |
| ·纵向磁场触头结构与剩余磁场的关系 | 第27-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 1/2 匝触头结构的三维磁场仿真计算 | 第30-47页 |
| ·触头结构的设计 | 第30-31页 |
| ·触头结构的磁场仿真分析 | 第31-42页 |
| ·静态场分析 | 第32-35页 |
| ·谐波场分析 | 第35-41页 |
| ·瞬态场分析 | 第41-42页 |
| ·触头结构的参数变化对纵向磁场的影响 | 第42-45页 |
| ·线圈直径的变化 | 第43-44页 |
| ·线圈厚度的变化 | 第44-45页 |
| ·线圈高度的变化 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 触头结构的改进与仿真计算 | 第47-65页 |
| ·1/3 匝触头结构的三维磁场仿真计算 | 第47-56页 |
| ·电流峰值时的纵向磁场分布 | 第48-51页 |
| ·电流过零时剩余磁场的分布 | 第51-53页 |
| ·纵向磁场滞后时间及其分布 | 第53-54页 |
| ·触头结构的瞬态场分析 | 第54-55页 |
| ·1/2 匝线圈与 1/3 匝线圈的比较 | 第55-56页 |
| ·1/3 匝加铁心的触头结构模型 | 第56-64页 |
| ·电流峰值时剩余磁场的分布 | 第57-60页 |
| ·剩余磁场分布 | 第60-62页 |
| ·滞后时间的分布 | 第62-63页 |
| ·1/3 匝触头结构加入贴心前后对比 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 在学研究成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
