| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| ·课题的研究背景 | 第11-13页 |
| ·我国燃煤锅炉NOx的排放及控制现状 | 第11-12页 |
| ·NO_x的产生及危害 | 第12-13页 |
| ·NO_x污染的控制技术 | 第13-14页 |
| ·燃烧前处理及燃烧技术的改进 | 第13页 |
| ·燃烧时氮氧化物减排技术 | 第13页 |
| ·燃烧后的氮氧化物减排技术 | 第13-14页 |
| ·选择性催化还原脱硝技术 | 第14-17页 |
| ·国内外技术应用概述 | 第14-15页 |
| ·工艺流程 | 第15-16页 |
| ·烟气脱硝反应原理 | 第16-17页 |
| ·非金属元素掺杂改性TiO_2催化剂的研究进展 | 第17-19页 |
| ·N掺杂改性TiO_2催化剂 | 第17-18页 |
| ·S掺杂改性TiO_2催化剂 | 第18页 |
| ·F掺杂改性TiO_2催化剂 | 第18-19页 |
| ·Si掺杂改性TiO_2催化剂 | 第19页 |
| ·V_2O_5的分散性 | 第19-20页 |
| ·本课题研究的主要内容和技术路线 | 第20-22页 |
| 2 Si掺杂V_2O_5/TiO_2催化剂的制备及性能研究 | 第22-34页 |
| ·实验部分 | 第22-29页 |
| ·实验药品及仪器 | 第22-23页 |
| ·催化剂的制备 | 第23-24页 |
| ·催化剂的表征 | 第24-28页 |
| ·催化剂的评价测试 | 第28-29页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第29-32页 |
| ·催化剂的制备方法对SCR脱硝活性的影响 | 第29-30页 |
| ·不同Si掺杂量对SCR脱硝活性的影响 | 第30页 |
| ·煅烧温度的催化剂SCR脱硝活性的影响 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 3 Si掺杂V_2O_5/TiO_2催化剂低温脱硝工艺条件研究 | 第34-43页 |
| ·反应温度对NO转化率的影响 | 第34页 |
| ·进口NO浓度对NO转化率的影响 | 第34-35页 |
| ·O_2含量对NO转化率的影响 | 第35-36页 |
| ·[NH_3]/[NO]对NO转化率的影响 | 第36-37页 |
| ·空速对NO转化率的影响 | 第37-38页 |
| ·催化剂稳定性实验 | 第38-39页 |
| ·H_2O和SO_2对NO转化率影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 4 Si掺杂V_2O_5/TiO_2催化剂对催化剂的结构及表面性质的影响 | 第43-56页 |
| ·Si原子在表面的存在状态 | 第43-46页 |
| ·FT-IR傅里叶变换红外光谱 | 第43页 |
| ·X光电子能谱(XPS)分析 | 第43-46页 |
| ·Si掺杂对催化剂的结构的影响 | 第46-50页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第46页 |
| ·比表面积(BET)分析 | 第46-48页 |
| ·透射电镜(TEM)分析 | 第48-50页 |
| ·V_2O_5在催化剂表面的分散状态 | 第50-51页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第50-51页 |
| ·拉曼光谱(Raman)分析 | 第51页 |
| ·Si掺杂对催化剂表面的酸性及氧化性的影响 | 第51-54页 |
| ·H_2程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第52页 |
| ·NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD)分析 | 第52-53页 |
| ·PL光谱 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 5 结论与展望 | 第56-58页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·创新点 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 附录 | 第65页 |
