柔性ITO透明导电薄膜的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·本文研究目的及章节分布 | 第8-10页 |
| 第二章 文献综述与膜系的特性分析 | 第10-36页 |
| ·TCO 薄膜的概述 | 第10-15页 |
| ·TCO 薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| ·TCO 薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·TCO 薄膜的发展现状 | 第13-15页 |
| ·ITO薄膜的特性分析 | 第15-26页 |
| ·电学性能 | 第16-21页 |
| ·光学性能 | 第21-26页 |
| ·金属薄膜的光学特性 | 第26-28页 |
| ·多层膜的光学特性 | 第28-30页 |
| ·薄膜的表征 | 第30-35页 |
| ·晶体结构形貌的表征 | 第31-32页 |
| X 射线衍射(XRD)分析 | 第31页 |
| 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第31-32页 |
| ·光学性能的测试 | 第32-33页 |
| ·电学性能的测试 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 柔性ITO的膜系设计与制备 | 第36-45页 |
| ·柔性ITO的膜系设计 | 第36-38页 |
| ·柔性ITO膜系的制备 | 第38-44页 |
| ·制备原理 | 第38-41页 |
| ·实验设备 | 第41-42页 |
| ·制备过程 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第45-61页 |
| ·SiO_2阻挡层的影响 | 第45-46页 |
| ·ITO薄膜的研究 | 第46-58页 |
| ·衬底温度和退火处理对薄膜性质的影响 | 第46-49页 |
| ·射频功率对薄膜性质的影响 | 第49-53页 |
| ·氧气浓度对薄膜性质的影响 | 第53-55页 |
| ·臭氧对薄膜性质的影响 | 第55-58页 |
| ·Ag层厚度的影响 | 第58-59页 |
| ·SiO_2/ITO/Ag/ITO膜系的研究 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 结论与展望 | 第61-63页 |
| ·结论与创新点 | 第61-62页 |
| ·展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
