| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| ·铁电材料概述 | 第8-10页 |
| ·铁电性和铁电材料研究的发展历史 | 第8-9页 |
| ·铁电薄膜材料的性质及应用 | 第9-10页 |
| ·问题的提出和选题意义 | 第10-12页 |
| ·BiFeO_3 的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·BiFeO_3 的制备方法以及国内外研究进展 | 第14-17页 |
| ·BiFeO_3 块材的制备方法 | 第14页 |
| ·BiFeO_3 薄膜的制备方法 | 第14-17页 |
| ·BiFeO_3 与其他钙钛矿结构材料或稀土金属元素掺杂薄膜的制备 | 第17页 |
| ·其它铋系铁电薄膜材料的研究 | 第17-18页 |
| ·本论文的工作 | 第18-19页 |
| 2 脉冲激光沉积薄膜机理分析 | 第19-30页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD)的特点 | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积法的机理 | 第19-23页 |
| ·激光与靶的相互作用 | 第20-22页 |
| ·等离子体空间传输过程 | 第22页 |
| ·等离子在衬底上的成膜阶段 | 第22-23页 |
| ·薄膜的成核生长理论 | 第23-25页 |
| ·外延薄膜的生长特性 | 第25-26页 |
| ·脉冲激光沉积法的优缺点 | 第26-28页 |
| ·脉冲激光沉积技术的最新进展 | 第28-30页 |
| 3 脉冲激光沉积BiFeO_3 薄膜的工艺条件研究 | 第30-43页 |
| ·BiFeO_3 纯相靶材的制备 | 第30-34页 |
| ·固相反应法制备BiFeO_3 靶材的原理和工艺流程 | 第30-31页 |
| ·BiFeO_3 粉末及靶材XRD 结构分析 | 第31-34页 |
| ·脉冲激光沉积BiFeO_3 薄膜 | 第34-37页 |
| ·薄膜沉积工艺参数 | 第34-35页 |
| ·不同温度下沉积薄膜的XRD 分析 | 第35-37页 |
| ·BiFeO_3 薄膜的表面形貌 | 第37-38页 |
| ·BiFeO_3 薄膜的组分分析 | 第38-41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 4 BiFeO_3 薄膜的铁电性质研究 | 第43-48页 |
| ·BiFeO_3 外延薄膜的铁电性原理 | 第43-45页 |
| ·电极的选择 | 第45-46页 |
| ·BiFeO_3 薄膜的铁电性质测试 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 5 结论和下一步工作展望 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
