| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-10页 |
| 第2章 文献综述 | 第10-32页 |
| ·低辐射玻璃的发展及现状 | 第10-13页 |
| ·低辐射玻璃的节能原理 | 第13-18页 |
| ·低辐射玻璃的功能特点及应用 | 第18-20页 |
| ·低辐射玻璃的分类 | 第20-24页 |
| ·按生产工艺分类 | 第20-21页 |
| ·按膜层的遮阳系数性能分类 | 第21页 |
| ·按膜系结构分类 | 第21-24页 |
| ·低辐射玻璃的制备技术 | 第24-30页 |
| ·化学气相沉积法 | 第25-27页 |
| ·浮法在线CVD镀膜技术 | 第27-30页 |
| ·选题角度的确定 | 第30-32页 |
| 第3章 APCVD法制备SnO_2:Sb薄膜及表征方法 | 第32-39页 |
| ·实验原料 | 第32-33页 |
| ·实验装置 | 第33页 |
| ·样品的制备 | 第33-37页 |
| ·玻璃基板预处理 | 第33-35页 |
| ·实验流程 | 第35页 |
| ·工艺参数的控制 | 第35-37页 |
| ·薄膜样品的结构和性能表征方法 | 第37-39页 |
| ·薄膜结构的测定 | 第37页 |
| ·薄膜表面形貌的测定 | 第37页 |
| ·薄膜成分的测定 | 第37-38页 |
| ·薄膜电学性能的测定 | 第38页 |
| ·薄膜光学性能的测定 | 第38页 |
| ·中远红外反射率的测定 | 第38-39页 |
| 第4章 常压化学气相沉积装置的研制 | 第39-47页 |
| ·鼓泡器的研制 | 第39-41页 |
| ·镀膜反应器的研制 | 第41-45页 |
| ·预混装置的研制 | 第45-47页 |
| 第5章 锑掺杂二氧化锡薄膜的结构和性能表征 | 第47-64页 |
| ·基板温度对薄膜结构性能的影响 | 第47-53页 |
| ·基板输送速度对薄膜结构性能的影响 | 第53-56页 |
| ·稀释气体对薄膜结构性能的影响 | 第56-58页 |
| ·热处理对薄膜结构性能的影响 | 第58-60页 |
| ·预镀SiO_2膜对薄膜性能的影响 | 第60-62页 |
| ·SnO_2:Sb薄膜的形成过程与机理 | 第62-64页 |
| 第6章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 读研究生期间发表的论文 | 第70页 |