| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-17页 |
| §1.1 VCSEL的产生及发展 | 第7-8页 |
| §1.2 VCSEL的基本结构和性能特性 | 第8-14页 |
| §1.3 VCSEL的发展方向和应用前景 | 第14-17页 |
| 第二章 氧化物限制工艺的研究背景 | 第17-21页 |
| 第三章 湿法氧化的反应原理及氧化规律的理论模型 | 第21-26页 |
| §3.1 湿法氧化的反应原理 | 第21-22页 |
| §3.2 氧化规律的理论模型 | 第22-26页 |
| 第四章 氧化限制层的优化设计和湿法氧化工艺 | 第26-32页 |
| §4.1 氧化层的优化设计 | 第26-28页 |
| §4.2 氧化设备 | 第28页 |
| §4.3 氧化实验的工艺过程 | 第28-32页 |
| 第五章 氧化实验规律及氧化过程中的一些常见问题 | 第32-40页 |
| §5.1 湿法氧化实验结果的分析和比较 | 第32-35页 |
| §5.2 湿法氧化工艺中的一些常见问题和解决方案 | 第35-40页 |
| 第六章 基于湿法氧化的VCSEL器件的性质测试和分析 | 第40-48页 |
| §6.1 热学特性分析 | 第40-43页 |
| §6.2 VCSEL器件的输出特性和阈值特性 | 第43-44页 |
| §6.3 VCSEL器件的光谱特性 | 第44-45页 |
| §6.4 VCSEL器件的远场分布 | 第45-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |