真空熔炼氩气保护单晶连铸设备的研制及单晶铜制备
摘要 | 第1-9页 |
Abstract | 第9-10页 |
第1章 绪论 | 第10-28页 |
·金属的净化 | 第11-13页 |
·金属净化的概念 | 第12页 |
·铜液中的气体及其危害 | 第12-13页 |
·铜液的净化 | 第13-18页 |
·化学净化 | 第13-16页 |
·熔剂净化 | 第16页 |
·电磁净化 | 第16-17页 |
·物理净化 | 第17-18页 |
·金属的组织结构 | 第18-21页 |
·单晶连铸技术的原理及特点 | 第19页 |
·金属单晶连铸技术的研究现状 | 第19-20页 |
·单晶连铸技术的局限性 | 第20-21页 |
·单晶连铸试验设备 | 第21-24页 |
·设计思想 | 第23页 |
·设计要求 | 第23-24页 |
·单晶连铸试验设备改进方向 | 第24-25页 |
·本文设计的单晶连铸试验设备 | 第25-26页 |
·设备组成部分 | 第25页 |
·设备特点 | 第25-26页 |
·设备参数 | 第26页 |
·本课题研究的意义及主要内容 | 第26-28页 |
第2章 真空熔炼氩气保护单晶连铸设备的设计 | 第28-42页 |
·熔炼保温炉设计 | 第29-31页 |
·设计思路及要求 | 第29页 |
·炉体设计 | 第29-30页 |
·坩埚设计 | 第30-31页 |
·铸型及其加热系统设计 | 第31-33页 |
·水冷却系统 | 第33-34页 |
·设计要求 | 第33页 |
·水冷套结构设计 | 第33-34页 |
·炉体水冷却系统 | 第34页 |
·真空熔炼氩气保护系统 | 第34页 |
·液位高度控制装置设计 | 第34-35页 |
·电气控制系统设计 | 第35-36页 |
·温度控制系统 | 第35页 |
·液位高度控制系统 | 第35-36页 |
·炉盖开合控制系统 | 第36页 |
·牵引机构设计 | 第36-40页 |
·机械部分设计 | 第37-39页 |
·控制系统设计 | 第39-40页 |
·自制横引式单晶连铸设备的特点 | 第40-41页 |
本章小结 | 第41-42页 |
第3章 真空熔炼氩气保护系统设计 | 第42-50页 |
·真空系统设计 | 第42-45页 |
·典型真空系统 | 第42-43页 |
·真空系统参数 | 第43-44页 |
·真空泵的选择 | 第44-45页 |
·真空密封设计 | 第45页 |
·密封材料 | 第45页 |
·密封结构 | 第45页 |
·真空炉壳设计 | 第45-47页 |
·炉壳壁厚尺寸确定 | 第45-46页 |
·圆筒炉壳水压试验时,壁上的应力校核 | 第46-47页 |
·炉盖厚度计算 | 第47页 |
·隔热屏设计 | 第47-48页 |
·真空气氛转换设计 | 第48-49页 |
·设计原理 | 第48-49页 |
·真空气氛转换闸板门 | 第49页 |
本章小结 | 第49-50页 |
第4章 单晶铜制备工艺 | 第50-57页 |
·单晶铜制备的工艺过程 | 第50-51页 |
·单晶铜制备所需材料 | 第50页 |
·合理的工艺流程 | 第50-51页 |
·工艺参数的确定与控制 | 第51-54页 |
·熔液温度 | 第51页 |
·铸型温度的控制 | 第51-52页 |
·连铸速度的控制 | 第52-53页 |
·冷却能力 | 第53-54页 |
·固液界面位置的控制 | 第54-56页 |
·固液界面位置对铸锭表面质量的影响 | 第54-55页 |
·铸型温度 | 第55页 |
·连铸速度 | 第55-56页 |
·冷却能力 | 第56页 |
本章小结 | 第56-57页 |
第5章 试验制备的单晶铜性能分析 | 第57-71页 |
·单晶铜净化效果 | 第57-63页 |
·试样制备 | 第57页 |
·除气效果分析 | 第57-59页 |
·杂质元素分析 | 第59-63页 |
·铸态单晶铜棒的静拉伸性能 | 第63-68页 |
·试样制备与试验方法 | 第63页 |
·试验结果分析 | 第63-64页 |
·试样拉断后的断口形貌分析 | 第64-66页 |
·单晶铜变形的滑移特征 | 第66-67页 |
·单晶铜铸棒的表面形貌分析 | 第67-68页 |
·单晶铜铸棒的电学性能 | 第68-69页 |
·试样制备与测试 | 第68页 |
·试验结果与分析 | 第68-69页 |
本章小结 | 第69-71页 |
结论 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
附录A (攻读学位期间所发表的学术论文目录) | 第77-78页 |
附录B | 第78-79页 |
分析测试报告 | 第79-80页 |