| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·氧化锌的结构与特性 | 第10-12页 |
| ·ZnO薄膜材料的研究现状 | 第12-14页 |
| ·ZnO磁性元素掺杂的研究 | 第14-19页 |
| 第二章 样品制备方法及表征手段的介绍 | 第19-28页 |
| ·靶材的制备 | 第19页 |
| ·薄膜的制备 | 第19-21页 |
| ·样品的分析测试手段 | 第21-28页 |
| 第三章 PLD制备Ni掺杂ZnO薄膜荧光性能的研究 | 第28-34页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·实验过程与参数 | 第29页 |
| ·实验结果与分析 | 第29-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 PLD制备Ni掺杂ZnO薄膜稀磁特性的研究 | 第34-41页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·实验过程与参数 | 第35页 |
| ·实验结果与分析 | 第35-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 Ni_(0.7)ZnO_(0.3)O薄膜的制备与分析 | 第41-47页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验过程与参数 | 第41-42页 |
| ·实验结果与分析 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第六章 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 研究生期间所发表的论文 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |