| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 绪论 | 第9-18页 |
| ·随机表面参量及统计特性 | 第9-13页 |
| ·光电系统及CCD、CMOS | 第13-15页 |
| ·像素及分辨率 | 第15-16页 |
| ·散斑干涉计量 | 第16-17页 |
| ·结论 | 第17-18页 |
| 第二章 随机表面产生的像面散斑对比度与随机表面及成像系统参量关系的模拟与计算 | 第18-30页 |
| ·引言 | 第18-20页 |
| ·随机表面在4 f 系统中产生像面散斑的模拟 | 第20-24页 |
| ·随机表面产生的像面散斑对比度的模拟计算结果 | 第24-29页 |
| ·像面散斑对比度随成像系统滤波孔径及随机表面粗糙度的变化 | 第24-26页 |
| ·对比度随表面分形指数的变化 | 第26-28页 |
| ·对比度随表面横向相关长度的变化 | 第28-29页 |
| ·结论 | 第29-30页 |
| 第三章 随机光场探测中退卷积方法的理论与实验研究 | 第30-39页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·退卷积法及其演示 | 第31-35页 |
| ·实验装置及操作 | 第35-36页 |
| ·实验结果及讨论 | 第36-38页 |
| ·结论 | 第38-39页 |
| 第四章 散斑杨氏条纹对比度的研究 | 第39-48页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·散斑杨氏条纹对比度数学表示式的推导 | 第39-45页 |
| ·对几种特殊情况的散斑杨氏条纹对比度的分析及实验 | 第45-47页 |
| ·结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |