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193nm激光剥蚀系统与电感耦合等离子体质谱仪联用条件优化研究

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
第一章 引言第9-12页
   ·选题依据第9-10页
   ·研究现状第10-12页
第二章 激光剥蚀等离子质谱仪联用技术介绍第12-26页
   ·概述第12-13页
   ·等离子质谱仪仪器原理简介第13-20页
     ·离子源:电感耦合等离子体(ICP)第14-16页
     ·ICP 与 MS 的接口(Interface) 和真空系统第16-17页
     ·离子透镜组第17-18页
     ·离子分离:四极杆质量分析器第18-19页
     ·离子检测器第19-20页
     ·进样系统第20页
   ·激光剥蚀系统原理简介第20-23页
     ·激光源及外部光路系统第22-23页
     ·样品室及气路系统第23页
   ·激光剥蚀系统与等离子体质谱仪联用技术简介第23-26页
第三章 LA-ICP-MS 联用条件优化设计第26-30页
   ·LA-ICP-MS 联用技术现状第26页
   ·LA-ICP-MS 联用技术的设计方案第26-27页
   ·激光剥蚀器基本实验条件优化第27-28页
     ·激光能量第27页
     ·激光频率第27-28页
     ·激光剥蚀斑径第28页
     ·载气流量第28页
   ·ICP-MS 基本实验条件优化第28-29页
     ·雾化气流量第28页
     ·其他可优化参数第28页
     ·内标元素的选择第28-29页
   ·LA-ICP-MS 混样器皿设计第29-30页
第四章 LA-ICP-MS 联用优化研究第30-61页
   ·运用 FLUENT6.0 模拟实验过程第30-37页
     ·Fluent 仿真模拟效果第31-37页
     ·Fluent 仿真结论第37页
   ·标样 NIST 610 联机应用方案第37-40页
     ·联机实验方案设计第38-40页
     ·具体实验操作方案第40页
   ·标样 NIST 610 联机测试结果分析第40-49页
     ·仪器条件认定第40-41页
     ·质谱图观察第41-47页
     ·测试结果分析第47-49页
   ·标样 NIST610 和 NIST614 测试精度优化前后对比分析第49-61页
结论第61-62页
参考文献第62-65页
致谢第65-66页
附录 1 new wave 193ss 原理第66-67页
附录 2 Agilent 7500 仪器概貌第67-68页
附录 3 ICP-MS 检测限及质量分析范围第68-69页
附录 4 作者简介第69页

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