无压浸渗制备双尺寸颗粒SiCp/Al电子封装材料的研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 文献综述 | 第9-27页 |
·引言 | 第9页 |
·电子封装与电子封装材料 | 第9-17页 |
·电子封装的重要性 | 第10页 |
·微电子封装的功能 | 第10-11页 |
·电子封装的发展过程及发展趋势 | 第11-12页 |
·电子封装的分级 | 第12-13页 |
·电子封装材料 | 第13-17页 |
·电子封装用金属基复合材料的制备 | 第17-20页 |
·压力铸造法 | 第17-18页 |
·粉末冶金法 | 第18-19页 |
·无压浸渗法 | 第19-20页 |
·国内外研究现状 | 第20页 |
·无压浸渗工艺研究进展 | 第20-23页 |
·课题来源及研究意义 | 第23-24页 |
参考文献 | 第24-27页 |
第二章 研究内容及研究方法 | 第27-31页 |
·研究内容 | 第27-28页 |
·预制型的制备及性能 | 第27页 |
·合金液在预制型中的浸渗动力学 | 第27-28页 |
·复合材料的显微组织及界面 | 第28页 |
·研究方法 | 第28-31页 |
·试验过程 | 第28-30页 |
·测试分析 | 第30-31页 |
第三章 双尺寸SiC预制型的制备及性能 | 第31-43页 |
·引言 | 第31页 |
·预制型的体积分数 | 第31-35页 |
·预制型体积分数的测量方法 | 第31-32页 |
·单一粒度颗粒预制型的体积分数 | 第32-33页 |
·双颗粒配比与预制型体积分数 | 第33-35页 |
·制备条件对预制型性能的影响 | 第35-38页 |
·加压方式的影响 | 第35-36页 |
·压力及加压速度的影响 | 第36-37页 |
·烧结的影响 | 第37-38页 |
·SiC预制型的氧化处理 | 第38-41页 |
·SiC的氧化过程及计算 | 第38-40页 |
·颗粒的高温氧化特征测量及结果 | 第40-41页 |
·表面氧化膜的结构 | 第41页 |
·预制型中的闭孔分析 | 第41页 |
小结 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-43页 |
第四章 铝合金液在预制型中的无压浸渗动力学 | 第43-65页 |
·引言 | 第43页 |
·合金液无压浸渍预制型的热力学条件 | 第43-44页 |
·孕育期 | 第44-47页 |
·温度对孕育期的影响 | 第46-47页 |
·镁含量对孕育期的影响 | 第47页 |
·浸渗速度 | 第47-56页 |
·温度对浸渗速度的影响 | 第48-49页 |
·镁含量对浸渗速度的影响 | 第49-50页 |
·浸渗动力学分析 | 第50-56页 |
·其他一些影响浸渗的因素 | 第56-59页 |
·Si的作用 | 第56-57页 |
·气氛的影响 | 第57-59页 |
·浸渗行为及机理 | 第59-62页 |
·合金液在预制型中的浸渗行为 | 第59-61页 |
·浸渗机理 | 第61-62页 |
小结 | 第62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
第五章 双尺寸颗粒Al/SiC显微组织及界面 | 第65-77页 |
·引言 | 第65页 |
·复合材料的显微组织 | 第65-68页 |
·体积分数对浸渗的影响 | 第65-67页 |
·颗粒分布对浸渗的影响 | 第67-68页 |
·界面状况 | 第68-71页 |
·SiCp与Al的界面结合类型 | 第68-69页 |
·界面处元素富集 | 第69-70页 |
·界面反应与反应产物 | 第70-71页 |
·断裂形貌 | 第71-74页 |
·基体破坏 | 第71-72页 |
·增强相断裂 | 第72-73页 |
·界面破坏 | 第73-74页 |
小结 | 第74页 |
参考文献 | 第74-77页 |
结论 | 第77-78页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第78-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
声明 | 第80页 |